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"N型的MOS如果 D、G端接在一起連接電路"$ h; k U. O2 J" `$ x
這種架構就類似於Diode-connected Transistor2 W) @' @5 f# j+ l* [ t& h ]$ P
二極體接法形式的電晶體
: u @; g* M0 q7 x# C) ]這樣子接~也是呈現負溫度TC的VGS值1 ^, F3 g5 [! ~& h( ^3 e
但是操作在"次臨界區"或是"飽和區"
3 l" v2 w% q0 P公式的表示方法也不一樣0 n \. `6 r0 W3 v2 V0 G: p3 l1 o8 k
操作再次臨界區時,CMOS的特性跟DIODE是類似的
/ p. y4 H4 P. M: l L# u
' {& v9 Y9 E- f/ p! z而一般bandgap 用的BJT,也是把B,C接在一起# H, x' s- Z- B7 Y7 a
利用P-N junction的特性而已0 m3 Y/ W# |" ?: t9 H
/ j4 H- S) G" K0 _9 t, A. R- Q2 O所以就特性來說~~用CMOS做成的P-N Junction+ k6 h$ {) v7 x# N
應該也會跟BJT做出來的有類似的效果
. h' ~7 b# b: N P1 t1 p8 O: O% K+ v }1 d* S
但是何者較穩定就不保證了
! x3 \* V* [7 x& b% U4 P7 ^6 {8 N9 v9 C# v# w$ y3 K) t$ F# k
因為就我之前的經驗~使用CMOS做出來的bandgap reference7 e8 V4 b+ f5 ], W6 a; c
它corner間的變化會很大,所以業界據說~還是偏愛使用BJT |
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