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"N型的MOS如果 D、G端接在一起連接電路"
" j" {6 Z0 D- I/ G這種架構就類似於Diode-connected Transistor- L5 Z: N, t; {& s6 C$ S
二極體接法形式的電晶體6 ?# |4 |8 b# y2 ~1 o# ^& Q' k
這樣子接~也是呈現負溫度TC的VGS值( X! C8 I, U8 ]
但是操作在"次臨界區"或是"飽和區"
5 a# t& ^+ i3 J N公式的表示方法也不一樣# M) {* q7 x2 j" F4 W
操作再次臨界區時,CMOS的特性跟DIODE是類似的! S% G' v1 ]" E7 h
8 s6 p5 D2 v; x2 B4 i9 Q# G而一般bandgap 用的BJT,也是把B,C接在一起
6 f7 l( v5 F5 V2 D0 [, z" P0 J) m0 I4 C利用P-N junction的特性而已
9 N* ?/ v2 r+ p8 K. }, q' H1 r% M$ S; ]5 R8 L" m2 y
所以就特性來說~~用CMOS做成的P-N Junction
/ @! i$ W1 {, ]/ k" q) \) \7 v應該也會跟BJT做出來的有類似的效果
; H% n6 T/ q0 R2 w; D2 D1 B7 K) \( u! n; G
但是何者較穩定就不保證了4 E9 w5 j3 L& x; {' n& D
8 ^5 H; ^3 `8 {0 P
因為就我之前的經驗~使用CMOS做出來的bandgap reference
8 d' N# R# c9 P/ U0 s( w) ]它corner間的變化會很大,所以業界據說~還是偏愛使用BJT |
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