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經濟部技術處ITIS計畫王惠芳
" ` t# A; G' o0 i一、前言
9 C% K. ~ d8 x9 l6 d' [& s6 @( ~光阻經由照射之後,會產生化學反應,再經由顯影(Developing)的製程將圖案定義在基材上,目前常用的顯影液為TMAH(Tetra methyl ammonium hydroxide) 氫氧化四甲基銨,化學式為(CH3)4NOH。經照射後因照射區與非照射區在顯影液中溶解度不同,顯影液可將易溶的部份溶解,而達顯影的目的,當光阻為正型時,照射區產生化學反應,主鍵斷鍵並發生極性變化,非照區則不易溶解於顯影液中,溶解速率可達十倍以上,負型光阻則是照射區產生交連,不易溶解於顯影液中,與正型光阻之反應相反。顯影液(Developer)為TMAH原液與超純水稀釋後所製成之產品,產品純度由TMAH原液以及超純水品質決定,為此超純水的製造以及TMAH原液製造方法的不同,將影響製品品質之純度,因此,目前的供應來源仍以國外技術來源居多。g-line、i-line以及DUV光阻所需的顯影液普遍是2.38%TMAH(統稱NMD-3),特殊需求會再做客製作的調整或是面板廠內部自行調整。0 D, Z6 o6 e( i w
二、日本與台灣IC顯影液需求 m' @( u) k% o
日本國內主要是三大公司瓜分,東應化TOK、多摩化學以及日本德山Tokuyama各佔有三分之一的市場,提供給IC半導體用的數量為6000噸,市場約為日幣17億元,這三家供應商同時也是LCD顯影液的主要供應來源。
9 n# L- a/ F8 y3 A J; c供應給IC顯影劑的廠商也是以東應化TOK,多聯,日本德山Tokuyama為主,其中以TOK市佔率最高,佔有50%以上的市場。2006年顯影劑市場需求約有40000噸,市場值在12.1億左右,預估2007年隨著12吋晶圓擴廠,需求跟著上升,預估成長10%左右。
8 i' z. ?# G. f& A3 s表一 2006年日本及台灣顯影劑的市場規模
$ W1 R, y; o1 V; `區域 | 濃度基礎 | 需求量(噸) | 需求值 | 國內/國外供應商 | 日本 2 F! E6 o# l5 l$ \& ^
| ~20%
/ {. G. v5 R/ |6 o5 f$ j | 6000 # F# u0 P# s) q) Y
| 日幣17億元 % X1 _8 C; P1 A' W; z# u
| TOK,多摩,Tokuyama | 台灣 ; G7 Z8 N/ A# ~3 l# Y1 ?/ `/ u! J
| 10~25% & m; o% v% ^% j9 {
| 40000 5 P* t+ B* c5 A9 `8 F
| 台幣13億元 z1 R A. K- h2 x( i! ], r
| TOK,多聯,Tokuyama |
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資料來源:富士經濟2007/03;工研院IEK2007/087 t _: N$ R E/ T" G% W( s
由於顯影液的需求量大,單位售價也較光阻低,競爭激烈,因此供應商考量成本以及直接供應國內面板廠,普遍皆在國內設立製造廠,或與本土業者合作生產。TOK與長春化學技術合作,生產化學品供應半導體及光電產業,多聯由三聯科技與日本多摩化學(TAMA)合資成立,跨國合作成立專業化學廠,日本德山Tokuyama則在台灣尚無技術合作夥伴。" m0 i7 O* y- q
國內本土產業投入製作顯影液,一方面需投入高成本購買純化設備,另一方面須有自己的專利技術,再加上目前每公斤單價以相當低廉,須有足夠的資源及技術,再投入會比較合適些,最合適的策略就是與國外知名大廠進行技術合作,既有成熟技術為後盾也既有客源,屬WIN-WIN的合作模式。 |
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