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[問題求助] leakage current

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1#
發表於 2008-11-20 09:18:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
請問各位前輩高手:; k5 s. X2 N0 k3 y2 `
MOS leakage current 該如何解釋會比較恰當?
. S& \: w$ _. \* w  M& U* z
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2#
發表於 2008-11-20 10:56:41 | 只看該作者
一般leakage current都稱為漏電流
3#
 樓主| 發表於 2008-11-20 11:12:15 | 只看該作者

回復 2# 的帖子

這我知道..我是想知道要如何解釋漏電流
6 N& Q  `$ Q6 [& [( pleakage current=漏電流
4#
發表於 2008-12-16 17:58:56 | 只看該作者
一般情形下, 希望電晶體截止(cut-off)時, 沒有電流產生,/ E, A* ]9 w# V' T# j- h2 J2 E
但實際上, 卻會有微量的電流出現, 6 s( D) R- Q* `: j7 h
此電流就叫sub-threshold current 或 leakage

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hyseresis + 2 分享是成長動能,感謝解釋

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5#
發表於 2008-12-18 14:25:06 | 只看該作者
漏電有好多種,最簡單的理解就是世界上不存在無窮大的電阻,所以有電壓的時候就一定有電流,只是電流很小而已,這個就是漏電了。+ m- `$ S6 B  z

, R* w" s( w9 `$ ^% T7 jMOS中的漏電有幾種情況,亞閾值的溝道漏電,DRAIN端的PN反向漏電,柵氧的隧穿漏電,GIDL漏電。最重要的就是亞閾值的溝道漏電。
, O6 X# m8 V' _  I5 ^2 [3 v" }
5 ~& {# q/ P) |! A8 n哪這個亞閾值的溝道漏電,可以這樣理解的。當MOS管開啟的時候,溝道就像一個電阻,把兩端連了起來。當他閉合的時候,柵下沒有反型的溝道形成,就沒有一個低租的狀態把ds鏈接起來,這個時候整個MOS管的結構可以看成是一個NPN或者PNP的bipolar,哪由于有電壓的施加,就會有漏電產生,而且由于NPN或者PNP的電流大小,和基區的寬度是十分相關的,所以溝道越短,漏電就越大
6#
發表於 2009-8-19 15:18:27 | 只看該作者
主要有分
& h) I& I+ O2 o& O0 m4 \1.次臨界漏電流(sub-threshold leakage)
7 ?! o: Y6 {. E+ M& q2.閘極漏電流(gate leakage)
1 h6 h- c2 v/ ?. d# e3.逆偏壓結( reverse biasedjunction)Band-to-Band Tunneling(BTBT)漏電流$ z. w5 [* [% E# v
給你參考看看
7#
發表於 2009-8-21 22:27:44 | 只看該作者
好像是在源漏和衬底之间有一个反偏的二极管,漏电流主要是这个反偏二极管的方向电流,通过这个二极管电流从衬底流出来。还有DIBL电流,栅的泄露电流,GIDL电流等等,还有硅化物做的不好也会引起比较大的漏电流,一般来说,DIBL和栅的泄露电流对整个CMOS器件的漏电流贡献比较大。理想状态下cmos应该没有功耗的,但有了这个导通电流,就自然有了瞬态功耗了。漏电流是件在设计中要认真考虑的事情
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