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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?
# j( [5 h" P6 B3 _请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!% Q$ f1 F2 I6 |3 i; D* k' T
有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm8 y- S) O5 e5 V6 o1 c& @+ f
如果會超過
0 x. E. Q. a) T/ E那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢, {. m3 p2 V: q, x' G
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪" P7 P6 |" Y8 T- E+ e+ K
! p# W8 t: X: y* r. A8 P. C- P" V
[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080 4 l* A# D. Y) t/ e! ]
0 \& t" r2 |" P7 D9 D
- j7 `2 s1 u7 F; W5 P/ ^
   
4 N3 m0 I) ~2 a& M  c 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
& ]/ B, b( v! M; d) @3 v" J很可能打坏core里的device。' Z8 w8 b/ G$ a; W/ x
 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
' [1 s$ A" w3 F, D! y超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...
, S9 [' e% e; c  q' T9 H$ b% Q* uscy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM

9 _, u1 [" {+ ^1 d
1 F0 F$ Q% c$ `! d" E
% N: I( O0 H5 U- }' xI/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是
' ~( R& y" f+ L3 e, o+ ?) \很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积" e9 U  i' a( x2 }
来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...# o0 D8 s) V" a3 s: i/ S0 I
scy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
, |1 v8 b: `( p& U" a, A

  y# T0 e4 |) m- O. J拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),) e+ x* W' Q8 v9 G
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管- [, B) j5 i* m& k5 R
(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多+ G- ~  m' `0 A# ~# }3 P9 R
npn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,
( v% k5 a( k0 I+ v5 b必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小
0 Y& _6 G1 O; w* u0 V暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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參與人數 1感謝 +2 Chipcoin +2 收起 理由
semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!9 X- r: x. O: i: x" k' w* Y; @
讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多& p4 e* |: B# f. T; N8 w8 P
1 s' ?  y0 x. _. k2 o& t8 Q( X& Q
謝謝大大的分享!!!!
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