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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?
) }" q, h4 C2 n6 |8 u6 A! X+ q  `请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!
6 ?: n4 C: ~7 q# M) h有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm
2 F8 t3 G$ l% n0 r1 |) K如果會超過: u6 v) p; l# f+ q+ o) d
那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢% F& B/ T8 T, V( C  C  t9 `' j2 V
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪" ^( I- w4 L% g7 i" N! @2 h
# L! H. M( K( z; N* b9 |
[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080
8 u' j/ X5 W& F# R4 Q. N9 N1 H- t
* h3 q# W" c0 S0 I. E1 ^% j" Z: A1 b; u
   
% y: p: v9 s, w 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
% `! ?- P5 z0 r1 ?很可能打坏core里的device。
! ?" I3 w: `  \ 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢+ `  I' a) x* L
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ..." e3 J5 ]( I- ~; f
scy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM

0 N: K4 U' N) a8 P9 u) ~) ~% j9 N9 a, f) W

. L2 `" J+ @$ Y% z$ P( HI/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是/ k2 E; A$ U: A( g9 f
很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积
# F5 E6 Z4 j3 }" {) S7 x5 y& p来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...
! s6 T9 M$ m. M. I% v' Z2 Lscy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM

; I" M3 _8 q3 I4 W0 k1 j! i" M& M2 F0 F
拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),
& a$ A1 V9 ^) i/ y% ^其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管- Q3 h, K" o0 U3 F! P
(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多
/ ~. y) y0 u$ V0 m9 Ynpn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,
$ e3 W+ `! s. g: m+ R" \# }必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小9 _) l; D8 Z4 l% B/ f4 d) O: G
暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!: p2 y4 h; E1 n
讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多  H) ?, r/ _  c3 d" P! q
1 j- V& _6 P" L( [
謝謝大大的分享!!!!
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