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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?/ G' J! _) C+ D+ ~: D
请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!- G' H0 J- x3 m3 g( Z
有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm
0 ~$ H( |3 Q. @% y8 G+ A如果會超過
. d4 P& X8 Q5 ?* Y) `) j2 r0 o那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
9 i; m5 m0 I. \: z: q超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪' m& m8 v' ^4 g( J3 E0 N$ m
5 r& K8 ]' _: f5 O
[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080 ; ]1 \: }0 X2 w) [1 ]! w5 t
$ ^! b" p4 b8 h
: x3 g5 b" n' S6 H5 u7 F
   
1 s" D8 `7 x1 i/ H5 P8 F. D2 p 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
$ ?+ w0 {* u" T0 B9 Z8 S1 ^3 v; Y很可能打坏core里的device。; t5 ^0 Y9 W$ p" U
 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
  @- |, y6 P# `6 p# ~# s" {# S超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ..." ?- {/ F- P. ~9 E0 N' O7 W5 @6 `
scy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM
( J: @6 ^$ t, i3 q
$ Q% |8 m; c# E

+ ^  o. N; K$ {3 Z, l" e; _9 [I/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是; ]% `& u1 G3 r7 c6 H4 I' }
很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积
) U$ P, @- J3 x9 M; Y8 d9 c" X来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...
% B- G! x+ U! `, |4 s2 o& U& m: Sscy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
) [( q) K" {+ D! {/ ~
$ F3 q: O! [( g0 w# D+ L: ^
拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),0 A1 L; E% y9 m3 z9 T! j
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管/ ~7 L* R' H+ J  e7 f
(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多7 x3 y1 c3 ^& }+ ]0 d! |6 M, Z( G
npn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,
) Z7 B' s4 r' ^必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小4 ]) s# b; J4 j, E. G7 h7 W2 H8 C& c
暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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參與人數 1感謝 +2 Chipcoin +2 收起 理由
semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!2 a2 z  r2 l  Z) G$ D' O+ \1 o
讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多
  k& Z9 J  [- _" i, A. w" V) g, A) ^, }1 h/ H! [/ J
謝謝大大的分享!!!!
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