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[問題求助] bjt 的 layout

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1#
發表於 2011-9-15 11:28:03 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
請問 PDK 中的 BJT 射極的部份
' R1 _. G+ w- q# k( ~6 f$ Z/ T) J8 a% Y# b1 \6 P
CT 和 OD有一段距離- P" j* t' K& e

5 o! A7 t8 w" J( B7 N$ R留那段距離目的是為甚麼?
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2#
 樓主| 發表於 2011-9-16 14:22:27 | 只看該作者
我再補充一下問題" z" B( ?/ `, d* p

. a# [9 U, A$ b- p) N' A我的意思是射極上的CT 沒有打到最滿
( p* Q4 r% X6 M) X! h% K4 f
+ k+ G- z, v/ S% Z( Q離邊緣還可以打上3個左右
3#
發表於 2011-9-16 22:19:53 | 只看該作者
CT是哪一層layer?
3 O" Y9 }) N. {) w  FNPN or PNP?
4#
發表於 2011-9-22 09:31:08 | 只看該作者
本帖最後由 CHIP321 於 2011-9-22 09:32 AM 編輯
9 d; U- n" f. J
! h* j+ P6 m0 O2 j) wCont 在CMOS兼容工艺中可能考量的不是太多,因为会在整个区域做saliside等硅化措施。但是如果要严格的说的话,cont的位置,cont的深度及结构本身是会对射级注入效率产生影响的。所以Desgin 需要遵循 DRC Rule,不能随意更改,另外你这里提到的估计应当是纵向管,接触位于射极中心,会减少射极的横向(侧边)注入,在不变更三层结结构,尺寸下,能额外提升发射极效率。很多BiCmos中会使用一个Contact来做射极连接。其他寄生还会有些利弊影响,可能不是主要考量因素。这是我暂时能想到的,供LZ参考,不当处请批判指正。
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