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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?, Y% j) Q9 {+ q% t/ f
请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!
/ E' f6 l" a3 z3 D1 l8 s: \6 w有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm
! }" s( u4 I' p% e% [1 ?如果會超過( V+ h& u" U6 u9 N/ y
那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢1 P: m8 C- X! U( q( N  [) z
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪
' g& {  d! ~% J8 P/ q% M7 F; `6 O3 D; t, _& l
[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080
' K2 S: ~0 c+ T8 h/ b1 G. ^5 F& x  x5 h% E$ \

7 N8 W; _* n; Q/ e     j2 p! g8 g- p  R: a
 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候# x) i( D- S+ [4 g. e% v( o
很可能打坏core里的device。
! q0 `% B" _- K 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢" x0 @7 ], p$ F- c3 I$ u. P) a
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...$ a3 s; c, I& F$ j1 [
scy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM
! b# I7 D) }) }; z3 p4 K: x- `

+ F5 b5 j& X7 i
, {9 i! i& s: [" ~$ RI/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是
8 P" \, k  _* V+ W8 w* W很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积
+ P: i; M* M7 J+ D3 J来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...
( i4 u* ^& }3 S( Qscy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
9 b+ Z, M8 V; D+ l. Q" E$ Y* W
, I: A5 {+ H  k) D' f! G) q9 v! D9 j
拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),, @! G7 i; ], w7 V" _
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管
; u& U) P$ V1 s9 s. ]- B(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多
, _1 P  q  B$ N" E) c9 jnpn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,' u0 j$ S0 J3 t/ ^. q4 L
必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小
+ x4 d: C+ m6 I) ~% Q. g暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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參與人數 1感謝 +2 Chipcoin +2 收起 理由
semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!
! G* k+ w+ L' z3 r8 K8 j" g讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多
! S7 ^8 y1 ~& R# y2 f* l  v: \6 i! f* [& |. t5 H; T
謝謝大大的分享!!!!
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