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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?7 @0 I7 a3 x3 a+ `: l
请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!6 l( f2 T! j: g) {
有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm
( Z  E8 B+ M8 `如果會超過/ Q, M4 {. B6 F+ t9 R' F
那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢/ q$ T1 u0 O( j, s7 u+ B7 I
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪% ]% M5 X% g% J" g
: g' X7 x: b1 u  [; R
[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080 $ ^' a" n! ?2 d, N/ R

$ Z* z. x7 q; `' T& T4 C  {
: r& W2 |% i9 O& u: c: v5 X   
, x8 _, L7 h) A 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候
% p, Y. q: w; L很可能打坏core里的device。- P( {. r% H! u+ h3 W( ]* ?! z
 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢% @- b. b6 d) z) F$ e3 ?! o
超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ...
  \* g! V! T! h' {$ ?. Vscy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM
) T3 c- n1 c+ I0 M  s% [
  H! W& b2 S$ x) @7 S0 ?. @! H7 ]
# R6 E0 i1 q# l: I) Q
I/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是
* T* n2 u9 _. A) u2 C3 J1 L很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积7 p: m! O  [6 P
来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& ...& u+ p7 {& v; W' i. `6 m. K" S5 A
scy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
" q! [/ W! r8 w& F6 \+ G( N

. J4 a2 f1 f0 i1 U/ z拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),/ m' v: F3 B2 Z! ?
其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管
, ^* W& x/ `# P8 B; q" `(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多
5 a. O2 c% n& hnpn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,! H( W+ h2 P) M+ C
必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小% d% ]) v: a1 M. R$ \
暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!% G6 ?$ \2 y# ?9 D/ J3 U
讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多
0 `3 w) J8 `. u; z. u' b/ {7 o) g! x! {' [# T# G/ U: I
謝謝大大的分享!!!!
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