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我最近剛接觸TSMC 0.18um製程,想在電路裡面製作一個較精確的電阻
: V. H* M3 {+ |) _/ E這個電阻是要用在高增益高頻寬轉阻放大器(TIA)當中當作resistive load使用,大小是數個kohm
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9 M' D. l2 {% o5 k( V" Y# N目前查過製程文件資料,發現diff電阻的sheet resistance (Rsh) 的變異量似乎比poly電阻更小
& {; O, ?2 c. q1 _7 \0 kp+ poly w/i silicide Rsh變異約 30% (7.x 正負 2.x)
+ [) ]. ?, Y9 p p- M/ w6 cp+ poly w/o silicide Rsh變異約 15% (3xx 正負 50.x)
" i; L {5 `' o8 y, \& h* y* G0 v: U( \' sn+ diff w/o silicide Rsh變異小於 10% (5x 正負 5.x)7 p& z% q+ N. r- B1 A
9 A/ v9 H+ b/ ]) j* \
但是查了一下先前論壇上的文章,似乎是說poly電阻做的比diff電阻更精準??
4 q. I4 H5 e7 e! _9 E" G7 A可以請各位前輩說明一下嗎?% W8 y0 _0 z, ?" P& `4 X+ _; \1 m% l
; I. s3 }5 P- S, Z# M/ h3 l另,如果想要使用這些電阻做為resistive load,是建議使用poly w/o silicide 還是 diff w/o silicide呢?
6 u" V( ?% F5 L- P5 t感謝回答。 |
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