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[問題求助] chip power ring 电阻一般不超过多少?

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1#
發表於 2008-3-13 18:09:48 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
对于较大面积的die,从ESD考虑,power ring 电阻一般不超过多少?. n2 M5 p; i# m/ X' b
请高手指导,谢谢
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2#
發表於 2008-3-17 23:36:52 | 只看該作者
我也想知道這方面知識啊!!!!
' _- i( V5 \$ z& \# o& F有沒有人可以幫忙回答的呢????
3#
發表於 2008-9-8 23:18:47 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm6 v! L3 K7 E( h; t' [
如果會超過
5 `7 @, k( M( ]那麼 I/O 這邊的元件要畫大些
4#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:01:42 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
8 e" ?+ a+ X1 _% M& Q5 a9 ^超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么来把握哪: s& X6 u# ^) l* @0 J, J4 ^9 I* X5 h% i

) F- e+ @8 A5 d9 h[ 本帖最後由 scy8080 於 2008-10-31 12:05 AM 編輯 ]
5#
 樓主| 發表於 2008-10-31 00:07:09 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,这个作用是什么哪
6#
發表於 2008-11-1 15:26:02 | 只看該作者

回復 5# 的帖子

是为了增大Drain 到Gate的space,也就是增大Drain到Gate的Resistor,防止突然的大电流烧毁Gate!
7#
發表於 2010-5-14 15:37:38 | 只看該作者
若擔心 POWER ring resister,有另一個想法就是在這條路徑上多塞一些VCC to GND CLAMP
8#
發表於 2010-6-8 10:48:22 | 只看該作者
补充:1 Ohm可能难一点,3 Ohm比较实际,特别是较大的Chip!
9#
發表於 2010-6-14 11:36:24 | 只看該作者
看到許多前輩的經驗談......讓我增進許多經驗喔~~~感恩
10#
發表於 2010-9-11 16:13:21 | 只看該作者
回復 1# scy8080
/ R" z! K( {- ~- V. q) M+ h4 T' A
( `0 W* |7 H( L7 R* \9 l- Q- a% |) c1 ]( |5 @
   ) _* N. T; p4 T: s6 ?
 以TSMC作为参考,90纳米以下要满足bus电阻小于1欧姆,90纳米以上要满足bus电阻小于3欧姆;如果不满足该设计规则,esd zap的时候3 l0 q9 a+ ]( M& r; V! y
很可能打坏core里的device。) }3 r" w( ?' Y! a8 T
 
11#
發表於 2010-9-11 16:24:01 | 只看該作者
最好不要超過 1 ohm,谢谢
, M; w" j) G0 L* w4 J) {超过1ohm, I/O元件大些,这个尺寸大小怎么&#2646 ..., N% s0 N& D& D" [' T1 h
scy8080 發表於 2008-10-31 12:01 AM
: q5 F1 X! O% |5 w" [6 l0 m4 Z

; M# M& s6 H8 w% s/ A; q' S' X5 _4 f
I/O元件大些有一定的帮助,但瓶颈不是在I/O元件本身的大小上,所以I/O元件大些起到的作用不是很大,比如diode,Ncs的面积大,实际上对diode,Ncs的交流导通电阻减小并不是
9 M: w# ~& b5 i+ g) U7 a+ }很明显,由于bus太长了,上面的IR drop太大,比如ead zap 2000v,有大概1.3 amps的电流,如果bus电流从1欧姆变到2欧姆,那压降就增加1.3v,而单从增大io的面积/ [8 g8 O; {5 b1 L0 l2 v( D. m
来平衡bus电阻的增大是很难的(再说成本上也不允许我们降io的面积做的很大),势必会对core device形成危险!
12#
發表於 2010-9-11 16:43:44 | 只看該作者
还有一个问题,我们在做IO 管时,拉大CON到GATE的距离,大概3-4um,& .... O- u; J: Z: M  `4 q
scy8080 發表於 2008-10-31 12:07 AM
# X4 _# E7 r' \0 Y+ R

0 h1 D9 @$ o/ j5 p拉大 CON到GATE的距离也只是拉大drain 端CON到GATE的距离,不会拉大source端CON到GATE的距离(同时一般会将salicide也去掉),
. j! T) v2 \& G' v0 ^其作用是增大drain端的电阻,相当于在drain端串联了一个电阻,起到在esd 冲击时保护自己不被打坏;能保证ggnmos下寄生的诸多npn管5 n6 G+ ?$ i" {5 f2 U$ q& Y6 c
(gdpmos下寄生pnp管)能够均匀的被打开,进入snapback状态,泄放esd电流;如果drain端这个等效的串联电阻不够大,寄生的诸多
/ q2 G3 g% N) p  ^npn管(gdpmos下寄生pnp管)可能不能够均匀的被打开进入snapback状态,只是有的开有的没有打开,而esd的电流或者说能量是一定的,
+ z( V) u% L4 B4 s必须泄放,电流在局部逐渐增大,出现二次击穿(热击穿),把device烧掉,我们通常看到的emmi图片上出现在source与drain 端的那道小
- k9 Q* t/ j1 O  q, ~; O暗条或者drain端的小洞洞或者gate下的小洞洞,都是被烧毁掉的痕迹!

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semico_ljj + 2 + 2 不错。。。

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13#
發表於 2012-7-12 13:15:13 | 只看該作者
good!4 ^. `( u2 X5 m) j: m
讲的很好,现在在被一个ESD问题困扰
14#
發表於 2012-10-20 15:04:41 | 只看該作者
受益匪浅啊··~~~~~~~~~~~~~·
15#
發表於 2021-8-26 13:34:21 | 只看該作者
受益'良多0 V- T5 @" y8 \* N; t4 |0 }! ]5 q# `

& v+ I+ ]! H9 s$ c9 n& d謝謝大大的分享!!!!
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