一些Layout的問題

m851055

1.在LAYOUT時..直接用Metal2跨越一顆MOS上的每一層..(包含Poly, diff)
6 U( ]: V! |4 r. w6 T% |1 \   會有什麼影響??
& A' |( h; @8 p- E: B# c
-->在RF及analog時才須特別注意，一般CMOS差異極小。
/ x( l: Z! `0 z
* h3 e) F$ A( d1 i8 n; S7 ?9 y0 R2.在畫GUARD RING時,有P跟N的畫法...
& h4 n: I3 G* [( [; m   
7 C8 B) O/ ?  j9 J5 k& W& z* n-->PMOS N-ring在裡面P-ring在外面
    NMOS則顛倒

1 w, Q, N5 ^. Y3.在畫並連的BJT時,很多嚴討會的講義都會教說..畫成九宮格..或是正方形畫法.
6 X& Y! V. b' {& ?   特

) t  o, {2 G+ l# a" R" \& n% N0 P因為現行代工廠只提供正方形劃法之spice model，所以不是不能畫其他形狀，而是你沒有其他形狀之model，所以designer會跟layout說要畫正方形。
+ g  h" g' `% k* k& A" Q1 Z
所以不是不能畫，而是沒有model，代工廠不保證會動作。