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MKS推出TOOLweb殘氣分析儀 提供最佳真空腔體製程監控解決方案

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發表於 2007-8-20 12:40:23 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
MKS台灣子公司萬機科技發表一款TOOLweb殘氣分析儀,為一應用於各種半導體設備,並針對特殊製程氣體殘留分析的整合儀器,它結合了感應器、數據傳遞及分析軟體,提供即時控制及製程分析。) q) U! Z- d$ d8 t7 e" }- W

) e5 A) t0 K3 \* s$ Q1 A萬機科技表示,當半導體元件越來越小,而晶圓尺寸越來越大時,如何提升製程良率及機器使用率,已成為業者共同課題,在各式各樣真空腔體製程監控解決方案中,殘氣分析儀已被證明能針對多項應用帶來好處,包括偵測晶片上之污染物、監測製程氣體之成份及純度、檢驗腔體洩漏、監控腔體真空抽氣能力、強調腔體狀減少維修復機時間、不同腔體之間比等。
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透過與製程機台連線,TOOLweb殘氣分析儀可以結合機台參數配合晶片數據, 針對製程異常提供警訊,以便儘早處置避免損失,同時相關數據也供偵錯分析或機台校正維修參考。TOOLweb殘氣分析儀不只幫助設備工程師了解機器狀況及製程工程師分析製程條件,也提供數據整合供製程研發及FDC、APC之應用。6 o) W1 _# Z( R) }  F8 x

3 P. ]2 Z0 t, w6 g0 x( \MKS Instruments Inc.成立於1961年,在氣體、真空儀器及製程控制應用方面居於全球之技術領先地位,近年來為因應半導體及光電科技製程之演進,除了不斷從事應用於尖端之材料科學或製程技術的相關產品改善,並整合製程相關的產品以擴大產品供應及服務範圍,從精密的半導體工業、平面顯示器、光電產業到工業用工具的表面塗裝、食品及製藥工業等範圍,這些製程都牽涉到在控制的環境內使分子氣相及固相發生適當的反應,以便在材料上形成不同的材質或薄膜。
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" N! |) ~+ D2 n% @0 A* C# ^' ]; |藉由MKS的各種相關產品,可有效管理監測及控制氣體、壓力等條件,提供製程所需的環境,並提供各種製程產生器,例如:電漿產生器、微波產生器、臭氧產生器、射頻電源供應器等相關元件,供應製程所環境,以達到製程控制的目的。而萬機科技則是MKS在台灣的子公司,負責提供MKS相關產品銷售及技術服務。2 A( }/ y. X* t+ E$ F- ~8 h
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圖說:MKS的TOOLweb殘氣分析儀為一製程及腔體狀況監測器。8 I: v+ [8 |: S9 i; c/ V; A" [* F
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