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日本EDA新興大廠TOOL公司新選定鈦思科技為台灣區代理合作廠商

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發表於 2007-1-12 15:42:57 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
日本TOOL公司的Layout平台,有誰有聽過?評價如何?
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  日本 東京,及台北 台灣,2007年1月5號-專門為半導體大廠提供專業的Layout 平台 的EDA專業廠商:TOOL公司,於今日正式宣佈,鈦思科技即日起成為其IC Layout Viewer︰LAVIS及Fracturing system︰MaskStudio之台灣區代理夥伴。未來,鈦思科技將全力拓展及支援LAVIS及MaskStudio於台灣區的半導體市場。1 S( ?1 W, u$ W8 V( f6 r1 n& U" H

' U# }+ ?* h3 p6 JTOOL公司的總裁Hideaki Hontao表示:「對TOOL而言,台灣是個重要且快速成長的市場。我們不斷地在尋找對於代理EDA產品有豐富經驗,同時了解如何開發IC Layout Viewer市場的合作夥伴。由於鈦思科技在台灣已是知名的代理商,而我們也了解,以其專業的形象及陣容堅強的業務及工程團隊,除了卓越的專業技能外,更贏得台灣客戶的信賴與尊重。我們相當佩服鈦思科技開發客戶的方式,也期待能與其合作服務台灣的客戶。」* N8 u1 q* B3 C
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鈦思科技總經理申強華則表示:「由TOOL公司所開發的專業IC Layout Viewer -LAVIS,不僅能支援多種佈局(layout)及光罩(mask)檔案格式,更能快速檢視設計,減少以往開?檔案所需要的時間。隨著製程技術越來越先端,為確保晶圓在投片時不會發生錯誤,如何提高電路設計階段的正確性,半導體大廠需要能快速檢視大型的IC 佈局 檔案的專業Layout Viewer產品。我們相信藉著LAVIS產品本身的成熟度,能提供台灣半導體大廠對於專業IC Layout Viewer的迫切需要,鈦思十分期待與TOOL公司的新合作關係。」
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TOOL公司的海外部業務部經理Yoshiharu Ito則表示:「目前有許多全球知名的半導體大廠均使用由TOOL公司所開發的LAVIS及MaskStudio產品。尤其是MaskStudio產品的優異效能及良好品質,讓客戶能從中獲益。除此之外,我們能夠對深次微米製程(deep-submicron process)提供多種解決方案。我們希望在未來能夠對台灣的半導體廠商進一步提供DFM(可製造性設計)的解決方案,並協助他們利用TOOL所開發的LAVIS及MaskStudio產品,改進其深次微米製程上所面臨的問題。」
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關於LAVIS :新一代的IC 佈局檢視器 (layout viewer)
0 ]  G# _- T3 w2 S) a( B由Tools公司所開發的專業IC Layout Viewer -LAVIS,能大幅減少以往檢視IC 佈局及光罩所花費的時間,相對減少檔案開?時所佔據的記憶體。LAVIS不僅可支援標準的GDSII 及 E-Beam等檔案格式,還能輕易地與其它工具相互整合。LAVIS 可做為標準的Layout檢視平台,適用於IC設計、驗證、光罩製作、檢測及錯誤分析等階段。5 S9 p# ?  x+ V* o- F& z' q
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關於MaskStudio
9 m, m* i& ~8 [9 n& pMaskStudio是一個fracturing system,可支援大型資料及多種不同檔案格式,主要讓IC佈局設計(layout design)資料轉檔成不同的光罩機器可讀取的檔案格式。MaskStudio藉由其分散式處理技術及工作管理等功能,協助客戶達到較高的生產力;MaskStudio也成為大型且複雜的光學影像校正(OPC)資料轉換時的最佳解決方案。除此之外,透過與全球領先的光罩技術和silver control function的整合,MaskStudio可針對每一台光罩讀取機器產生最佳化的檔案資料,可因此減少執行時所花費的成本及以周轉(turnaround)時間。
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關於TOOL  T. m! Y5 ~% z: F2 }
TOOL公司位於日本東京,為一家專門為EDA領域提供專業解決方案的領導廠商。TOOL所開發的產品皆享有良好之聲譽,尤其是LAVIS產品。長久以來TOOL不斷提供客戶優異的解決方案,以及可客製化的軟體研發環境保證,使客戶能夠擁有更好的設計環境。想獲得更多TOOL產品資訊,請參閱http://www.tool-corp.com
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