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晶片廠商日子艱難 摩爾定律不再有效?

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發表於 2006-6-14 15:48:06 | 只看該作者

晶片廠商日子艱難 摩爾定律不再有效?

這兩句話,會不會打擊大家的信心啊!?& Q* O2 v. T/ h5 g2 @' w, F7 q
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當摩爾定律去年邁入40週年時,Gorden Moore說:「摩爾定律」短期內不會壽終正寢!當英特爾執行長Craig Barrett在去年IDF(英特爾科技論壇)演講上預測:「摩爾定律依然嚇嚇叫」! 2002年時,台積電技術長胡正明也說有把握「摩爾定律」還可以再走20年以上!; i& l. J& M+ V8 U# i2 Y! [

, K/ }  Y3 a5 |1 s底下這篇文章的標題,前一句話描述的可能是現在進行式,後一句話則可能是未來完成式!?因為大家都心知肚明:「隨著電晶體電路逐漸接近性能極限,這一定律終將走到盡頭。摩爾定律何時失效?專家們對此眾說紛紜」。, l: H# k8 y" i
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晶片廠商日子會更加艱難 摩爾定律不再有效 7 z+ ^  |' x0 h- S
http://www.52rd.com/S_TXT/2006_6/TXT4291.HTM
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- L- S3 G% h! W1 Q      [quote:91abfaf868]預計在未來的數年內,晶片生產商家將是困難叢生。 : d0 q9 z: @* m- n/ f

8 A; N; c& J: p" g8 d) b4 |  晶片廠商計畫到2007年晚些時候開始生產0.045微米工藝的晶片,他們接著將在兩年後將生產工藝推進到0.032 微米。生產出來的這種晶片速度將更快、能耗量會更低、集成的電晶體更多、而且製造成本會也更低些。 , p, i- W; Q5 K9 K

& `# R& ?7 d) K: S0 x$ r. Q! r  儘管採用0.045微米工藝的手機晶片在性能提高30%的情況下,能耗量反而會降40%,而且消費者不需要擔心電池使用時間,可以在手機上玩遊戲或看電視節目。然而,生產這種晶片將會是困難重重,而且廠商們不得不修改它們目前使用的基本材料和工藝。若有失誤就會意味著將落後于其競爭對手們幾個季度的時間。據德州儀器生產工藝部門的主管彼特表示,在向0.045微米工藝的過渡中會存在幾種使過渡比較艱難的因素,但對我們來說,這不是第一次首次遇到這樣的困難。
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  各大晶片廠商以及大學的研究人員將于本周出席IEEE贊助的2006 Symposium on VLSI Circuits。英代爾公司將在這次會議期間闡述由它開發的三柵極電晶體。據英代爾公司元件研究部門的主管邁克表示,在能耗量相同的情況下,三柵極電晶體的性能將提高35%。雖然這樣的原型產品已經被開發出來,但三柵極電晶體不會被應用在英代爾公司的0.045微米工藝中。他表示,我們認為0.032微米和0.022微米工藝用上三柵極電晶體還是很有機會的。但他對英代爾公司是否將會在0.045微米工藝中用金屬取代多晶矽方面拒絕發表評論。 + _& Q$ x8 i  r! X4 u

8 t; s5 `6 R0 U- n# P  同時,德州儀器公司將展示一個僅僅佔用0.24 平方微米的0.045微米工藝的SRAM記憶體單元,到目前為止,它的這一尺寸與其他廠商的類似產品相比較小大約30%。它能夠減小SRAM單元尺寸的原因就在於它採用了浸沒光刻技術。另外,德州儀器公司還對其生產工藝中的許多別的方面進行了改進。它在採用浸沒光刻技術方面搶先于其競爭對手。IBM公司計畫在2、3年後的0.032微米工藝中採用其Nemo浸沒光刻技術;儘管計畫在0.045微米工藝中採用,但英代爾可能在0.032微米工藝中採用浸沒光刻技術。它計畫在2007年晚些時候向廠商交付0.045微米工藝晶片,它是第一批批在2005年末交付0.065微米工藝晶片的廠商之一;而德州儀器公司計畫在2007年晚些時候生產0.045微米工藝晶片樣品,商業化生產則需要等到2008年。Freescale公司計畫在這次會議上展示其據說可將晶片能耗量降低30%的矽絕緣技術。但它沒有表示是否會將這一技術應用於0.045微米工藝。AMD公司則計畫在2008年年中開始生產0.045微米工藝晶片。
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2 x, b( _8 ?) R9 l  據業界人士認為,摩爾定律將在0.022微米工藝晶片於2012或2014年問世後不再有效。到那時晶片廠商不得不採用電晶體之外的新結構傳輸信號,這由於繼續縮小電晶體在經濟上已經不再可行了。但也有許多人士認為,納米技術將使電晶體的壽命再次延長幾年時間。[/quote:91abfaf868]
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