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[問題求助] CMOS,DMOS,BJT Process

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1#
發表於 2008-10-6 18:36:58 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
最近看到有人在討論DMOS,想請問有經驗的的大大,這三種的製程
在開關速度、熱效應及價格上,各有甚麼特色
謝謝
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2#
發表於 2008-10-6 20:51:17 | 只看該作者

我所知不多

BJT特色是電流驅動力強,所以才沒被淘汰,速度早就跟不上MOS。

CMOS是十幾年來積體電路的主力。(總不會不知道吧)

DMOS的用途我倒是不清楚,沒接觸過。

結論:開關速度當然是MOS強啊~現在講的幾GHz電腦世代指的就是MOS的CLK。

(PS:所知不多,僅供參考。)
3#
發表於 2008-10-6 23:43:49 | 只看該作者
嗯~~蠻詳細的解答~~多謝大大喔~~~~~謝謝你~~~~~~~~~~~~~~~�
4#
發表於 2008-10-7 14:03:06 | 只看該作者
你可以在網絡找相關的BCD制程了解一下,挺多的。
有詳細的流程圖
5#
發表於 2008-10-8 00:45:13 | 只看該作者
BJT特色是電流驅動力強,所以才沒被淘汰,速度早就跟不上MOS

好像做射频的王道还是Bipolar吧,说“速度早就跟不上MOS”是不是欠妥。

DMOS主要是高压器件
6#
發表於 2008-10-14 10:52:54 | 只看該作者
http://www.smte.net/Get/Docs/Ele ... 311013166732619.htm
這裡面針對這三種工藝有概略的說明,請自行連結參考吧!
7#
 樓主| 發表於 2008-10-22 11:31:57 | 只看該作者

謝謝

謝謝summer638的回應,內容很不錯
轉載部分內容如下

國內有些FAB有用CDMOS製程在高壓元件上


聽說有些大陸design house使用BJT製程
不知performance,yield ,price上會有什麼issue
請有經驗的大大幫忙分享一下
謝謝

⑴高压BCD
主要的电压范围是500∼700V,目前用来制造LDMOS的唯一方法为RESURF技术,原意为降低表面电场( reduced surface field)[9-10],在1979年由J.A.Appels等人提出。它是利用轻掺杂的外延层制作器件,使表面电场分布更加平坦从而改善表面击穿的特性,使击穿发生在体内而非表面,从而提高器件的击穿电压。高压BCD主要的应用领域是电子照明( electronic lamp ballasts)和工业应用的功率控制。
⑵高功率BCD
主要的电压范围是40∼90V,主要的应用为汽车电子。它的需求特点是大电流驱动能力、中等电压,而控制电路往往比较简单。因此主要发展趋势
侧重于提高产品的鲁棒性(robustness),以保证在恶劣的环境下应用能够具备良好的性能和可靠性;另一个方面是如何降低成本。
⑶高密度BCD
主要的电压范围是5∼50V,一些汽车电子应用会到70V。
8#
發表於 2008-11-19 00:15:20 | 只看該作者
個人愚見,歡迎討論。
DMOS,高耐壓,相對較低的Rdson。
Bipolar在某些制程某些領域上(如速度)還是很有優勢,如GaAs工藝。硅基在某些低端產品中仍舊很有市場,如TTL,驅動等,高速中如ECL電路。只是SoC中不適合用它。
CMOS不用講了,由於制程技術不斷更新換代,特徵尺寸不斷下降,速度越來越快,工作電壓越來越低。
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