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以Mask而言,Diffusion layer 的製造順序比PLY前面,wafer
, K1 b7 y$ I3 |2 A6 _9 S$ {不能hold在此時,在tape out經常在最後關頭要換 ROM CODE的: M# C7 P6 E' A! `0 n
project,選用Diffusion ROM是很不智的。) V& d. ]8 l2 |1 ~4 [/ g' f
但他有面積小、速度快的優點。
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+ d; g5 j3 i/ b2 ?7 o7 h- Q另,Diffusion ROM不是只有控制Vt的方式可以達成。控制Vt的 [- Q0 r! I6 O( H+ V5 k% U l# s1 q& u$ N
方式通常有patent保護,自己要design時候要特別注意,也要看
1 C+ {+ @+ D* a你要投的fab有沒有支援此process。
2 |7 | d4 ]8 e3 m2 ~) F
" Z) @ B$ O7 j, U8 TVia layer 的優缺點跟Diffusion layer的相反。
@8 q( t* O4 A) C
, K( c9 v+ Y4 [ W$ q[ 本帖最後由 teaman 於 2008-9-29 01:54 PM 編輯 ] |
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