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回復 7# marvel321
- l) a$ ~1 @; K) \Dear,您的观点和我之前的理解的非常接近,但是这个才是我开始疑惑的原因。
0 S5 o6 d: Q) H6 n; d! ~这个问题很多人遇到过.通过改善措施可以提高ESD LEVE,所以应用中可以避免回答这个问题。但是据我所知产生原因从来没有被清晰的解释。
# E$ b4 i8 H1 a. e8 h: O: X( t搜集到的可能的解释有:
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1:“能量”传输接入点不同,一者是从VSS-PIN,一者是PIN-VSS(可能来自传输线理论,但是没有更详细的说明)
- s- S8 [8 L& L! {. o j2:从两个不同测试,不同端口看,电路拓扑结构不同
* }: E1 l% G5 M- K- P& x. ]$ \3:机台测试电路与测试模型是有差异的,差异导致不同
0 ?# p, R. a. m4:浮栅初始电位差异
: u5 G( m) v! B# R* u
% \% X$ q- F# u: H% S; W% _ N+ G对于1,缺乏更完善描述问题的资料,不理解。/ Q/ Y* m/ k- M7 K3 n- `
对于2,虽然拓扑不同,但是各个节点压差并无差异,会引起损坏不同吗?
% a- Z; N8 J) p$ c, d8 s对于3,缺乏资料,待验证
% l" @: [ M8 z; r5 Y Z对于4,我最认可的答案; S6 g* `: {7 Y# r
( c! E8 N; J# H; K N
但是
: V5 F6 |3 z% U$ j. K若ESD Devices Gate 与source未连接到一起,marvel sir描述的问题的确存在,而且的确是两者不同之处;甚至可能会由于锁定电路导致逻辑,Gate电压差异,如果这些电路加入在ESD控制部分,也可能导致差异,这些问题都曾经发生过。. _3 Q$ Y- d6 H( Z6 A2 E$ P$ f
但是我们在ggmos中,未含有SR锁存器的情况下,依然遇到这种问题,则很难解释。
I; A$ q* W" _- y+ T0 N( f我们也对这种情况做了仿真模拟,事实上,即使把Gate上寄生电容电阻(包括线电容,线电阻)增大10倍,在脉冲发生时候,Gate电位在小于1纳秒左右即被重置,影响甚微。
- }$ ~! m6 `7 U$ q$ R9 s而EMMI也依然证实ESD Device 挂掉了,使得之前的理论无法解释实验。姑且吧责任归结于机台了。
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问题搁置很久了,感谢marvel321 sir,这个差异应当是确切而且贴近题目的。! O6 h6 ?' C% H) A* U! }. g
其它讨论也很有意义,但是还没有很明确证实对ESD 测试的影响
* n* x+ U8 y: K: D" ]悬赏结束,但是还希望大家能继续关注这个问题,把好思路Share出来~,完善这个问题点。 |
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