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[經驗交流] 懸賞100RDB:求解HBM VSS-PIN ZAP負電壓 與 PIN-VSS ZAP正電壓的區別?

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發表於 2011-12-30 10:35:30 | 只看該作者 回帖獎勵 |正序瀏覽 |閱讀模式
100Chipcoin
本帖最後由 CHIP321 於 2011-12-30 10:37 AM 編輯 # K  K6 e  O5 T  e' t$ ?
/ \" h. f0 B, V! v0 G" f
多次測試中 9 @% |$ S' H4 C( N. Z$ E) K+ d
---------------------------------------------------------------------------------------------------------------
6 B) I: f; }+ n+ Z" y
$ S. c! ?* ], p* Q2 U/ O- J; L: \4 C# y
2 P& v* G( G8 g, Y# hVSS-〉PIN ZAP負電壓 與 PIN-〉VSS ZAP正電壓,測試結果有很大差異(2000v以上)。
5 V. W( z) p% I3 \% N% N  |. H
3 g4 a) o% V' w- p: B2 w$ g疑惑很久了,也見過別的朋友提出過這個問題,誠心求解

1 H% z6 x! E1 @' w' T% e* Q
, F: I$ v) q5 |" T1 z: N----------------------------------------------------------------------------------------------------------------7 C/ ?" N8 e- a  n, c: y
PS:
% ]0 }" |+ L8 B1假設電路結構是模擬+邏輯電路,無SR' l$ a; d- f+ T$ o- i
2已經做HBM仿真模擬,各個node又具備完全一致電壓差,電流值$ [; I% @8 t+ d* I4 R+ X$ [5 v$ }
3考慮初始值,但是在HBM發生后1ns,左右很快會被上升電壓Reset
& `$ T* c% B, q0 e8 j0 J9 V7 i* `+ `

最佳答案

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我的理解如下,希望LZ采纳: 假定在线路中有一个MOS管,Drain接到Pin,Source,Sub接到Vss,Gate接到内部电路。 假定初始状态整个电路处于0电位, Pin-Vss正电压时,Drain端电位升高,由于Gate到Drain之间寄生电容的影响,Gate仍处于低电位,因此该MOS管处于关断状态; Vss-Pin负电压时,Source,Sub电位降低,由于Gate到Source,Sub寄生电容影响,Gate处于高电位,,此时MOS管处于开启状态; 如此,在两种测试方式下,MOS管的状 ...

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17#
 樓主| 發表於 2012-6-5 14:27:55 | 只看該作者
回復 7# marvel321 3 j: M9 j5 O* y4 p
Dear,您的观点和我之前的理解的非常接近,但是这个才是我开始疑惑的原因。8 _( w4 u& V, q9 x$ X
这个问题很多人遇到过.通过改善措施可以提高ESD LEVE,所以应用中可以避免回答这个问题。但是据我所知产生原因从来没有被清晰的解释。
+ R9 n7 x; c* g  b  }/ U4 \搜集到的可能的解释有:
1 B2 X7 o4 [/ ~- z; j. K4 ~; Q1 O) ?+ |9 d
1:“能量”传输接入点不同,一者是从VSS-PIN,一者是PIN-VSS(可能来自传输线理论,但是没有更详细的说明)% e0 o8 E2 f) h2 q
2:从两个不同测试,不同端口看,电路拓扑结构不同/ ]% c# b; W3 i" I3 q
3:机台测试电路与测试模型是有差异的,差异导致不同
8 O( R. b1 w: O/ a4:浮栅初始电位差异8 j4 V' o% F! q0 B+ `
1 ?/ O  M$ [, j/ X% u
对于1,缺乏更完善描述问题的资料,不理解。" x2 T8 ?4 _9 }( |; t/ j! ~0 U
对于2,虽然拓扑不同,但是各个节点压差并无差异,会引起损坏不同吗?
3 X5 t- o8 _1 P9 V对于3,缺乏资料,待验证% \* B' @6 }; w7 i$ ?4 w7 r1 t
对于4,我最认可的答案/ n0 Z9 e9 N. k1 X& m
7 W9 z. J8 g, S
但是
( i1 m& E7 K! X( W5 i若ESD Devices Gate 与source未连接到一起,marvel sir描述的问题的确存在,而且的确是两者不同之处;甚至可能会由于锁定电路导致逻辑,Gate电压差异,如果这些电路加入在ESD控制部分,也可能导致差异,这些问题都曾经发生过。
1 c( p7 X% _. g7 j9 F* u但是我们在ggmos中,未含有SR锁存器的情况下,依然遇到这种问题,则很难解释。2 }' ^4 @+ n6 A
我们也对这种情况做了仿真模拟,事实上,即使把Gate上寄生电容电阻(包括线电容,线电阻)增大10倍,在脉冲发生时候,Gate电位在小于1纳秒左右即被重置,影响甚微。  }8 E& q* X3 c* z1 N
而EMMI也依然证实ESD Device 挂掉了,使得之前的理论无法解释实验。姑且吧责任归结于机台了。
2 s1 t% G4 B9 M  \! {# L1 o  V! j% M+ Q2 O" P1 m4 ^1 v
问题搁置很久了,感谢marvel321 sir,这个差异应当是确切而且贴近题目的。* T# t: z3 [/ n0 h; R
其它讨论也很有意义,但是还没有很明确证实对ESD 测试的影响! v* S$ I* ]2 h# K$ |  L: n
悬赏结束,但是还希望大家能继续关注这个问题,把好思路Share出来~,完善这个问题点。
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16#
發表於 2012-3-7 13:58:03 | 只看該作者
沒辦法畫圖, 大家聯想一下或者自己畫張圖,
1 R' l$ Y/ T: w& \1 x, y, L2 R  {- M
舉例GGNMOS single device for HBM test$ w& N% Z  f: }6 f
only 2 pin (I/O and GND)4 U+ g* z3 P: b0 I2 h8 R5 j! O

3 u( ^" }; n5 W& o! GGGNMOS (drain-I/O; source & gate & sub - GND)
, O: n0 P1 @! @1 S' Y記住ESD一個重要rule, drain contact spacing會放大,
' J# E* K' J( _( Y  }# C& \; t1 j
9 |' p, h1 O0 x+ U! V假設從drain(I/O)打正電壓, 因為cont rule有放大,HBM pass 3K5 f( p- R, _: c4 P: i3 A7 h0 v
反之, 從GND打負電壓, source cont rule沒有放大, 所以HBM<2K' e; d3 G6 k4 l8 k

4 Q# y" V7 s& N: z6 Z5 W2 o這是最簡單的情況下說明了, 如果是circuit, path更多更複雜, 5 Q: i" \% O4 {; ~: }
要考慮可能反過來打負電壓其實是沒有ESD bypass path~9 r. N+ a$ |6 Q/ H+ G$ C9 Q
/ k" t4 Y! L1 D* U) T
(這樣大家知道為何會有差異了嗎? 各位先進也可以提出其他看法)
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15#
發表於 2012-2-12 13:40:29 | 只看該作者
看以前这个帖子发现同样的类型问题,可以参考一下,希望Lz能共享事情发展的进展!!!4 m8 f; J( {1 x" `9 R6 y
http://bbs.innoing.com/thread-11817298-1-5.html
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14#
發表於 2012-2-11 11:45:16 | 只看該作者
应该是接地线的分布参数的问题我猜
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13#
發表於 2012-2-11 11:44:34 | 只看該作者
多次測試中 * t, t8 \1 R2 Z( [
---------------------------------------------------------------------------------------- ...2 H% L( H' X8 _
CHIP321 發表於 2011-12-30 10:35 AM

8 U$ F8 N# ]; ?$ _* \5 C4 s( y
7 b& f" w6 S4 w4 @0 B- s看似相同的注入出现不同的结果,好奇怪,测试点的对称性
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12#
發表於 2012-1-31 11:22:13 | 只看該作者
首先要先考慮電路佈局的問題: 1. 是否有其他寄生元件; T/ j% F" @; Y& G1 E
                                                            2. Junction順逆偏造成的差異4 X" e( I2 F( J) ?- j  q
- R! Y; x5 C5 P) r8 @/ o
再者如果是單顆元件應該有接近的HBM level
: a6 W% C2 Z! I& t3 Q2 j. A9 H4 ^如果是複雜電路應該要以最小值來估算, 這才是這個電路真正的HBM level.' S  E$ X: R3 f( F- f1 |2 y- u" F

/ L( X6 V( n2 U! K; W- T但是仍要考慮該電路實際應用面,是否會有遇到VSS-PIN負電壓的情況~ ( m: x$ Y6 y( k1 A) B$ l
system level有時可以排除很多在chip level遇到的情況.
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11#
發表於 2011-12-30 10:35:31 | 只看該作者
我的理解如下,希望LZ采纳:
0 z& N' e& C, a5 e2 e5 E3 j2 e' |- [- |, x1 j( ?
假定在线路中有一个MOS管,Drain接到Pin,Source,Sub接到Vss,Gate接到内部电路。
1 r+ ^* T6 W$ [, J' X假定初始状态整个电路处于0电位,8 A) R: V' u5 B) h' M
Pin-Vss正电压时,Drain端电位升高,由于Gate到Drain之间寄生电容的影响,Gate仍处于低电位,因此该MOS管处于关断状态;
8 V* M1 s! ]7 OVss-Pin负电压时,Source,Sub电位降低,由于Gate到Source,Sub寄生电容影响,Gate处于高电位,,此时MOS管处于开启状态;
- B/ t) h6 s& V! Z+ }" b
- f/ B1 _2 Y. a# B如此,在两种测试方式下,MOS管的状态不同,也就造成HBM结果不同。
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