本帖最後由 tk02561 於 2014-4-9 12:22 PM 編輯
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表一、 全球前十大半導體製造設備廠營收排名初步統計結果(單位:百萬美元)9 c6 ~% W, W: ]2 A% j
2013排名. k) S6 v" L$ l- G1 c9 t& N
| 2012
8 Z- g) v, M8 A* w& o( X1 M排名) r' }, h% U1 C
| 廠商 | 2013年 營收 | 2013年 市占率(%) | 2012年 營收 | 2012-2013 年成長率(%) | 1
; X+ A j* N# {4 ^) } | 1
6 I" ~* I* i5 j1 d$ H/ O | 應用材料公司 | 5,460.1 | 16.2 | 5,513.4 | -1.0 | 2
% ]* z0 p" C, m# v/ h1 _ | 2
/ _0 S* m" D5 y | 艾司摩爾ASML | 5,302.8 | 15.7 | 4,887.5 | 8.5 | 3+ B C4 h/ t, q" c" Q
| 4
! f- u. r/ B1 h4 d | 科林研發 Lam Research | 3,163.4 | 9.4 | 2,805.7 | 12.7 | 4
3 Q% o6 |. U- t. T | 3( x) R& R: N6 ~$ F4 F: e
| 東京威力科創 | 3,057.1 | 9.1 | 4,219.0 | -27.5 | 5
1 W% L& F; x s# K. z | 5
5 B3 Q, O T4 E& G | 科磊KLA-Tencor | 2,163.4 | 6.4 | 2,463.5 | -12.2 | 63 y. v7 D! ]8 O& D. ^$ R% X3 I
| 6) W8 H" g1 O- U" Z
| Dainippon Screen | 1,222.7 | 3.6 | 1,483.6 | -17.6 | 7. ]3 j5 g' E1 M
| 8
0 W8 Y5 `7 }$ d+ H0 p | 日立先端科技 | 862.0 | 2.6 | 1,137.7 | -24.2 | 8. Q1 L8 A9 E! N" d
| 7( X3 r1 t D& K: k
| 愛德萬Advantest | 844.8 | 2.5 | 1,423.4 | -40.6 | 9
+ x2 `% G4 @- g | 11+ L: a% E+ w& B8 z4 r6 g9 T' d
| 泰瑞達 | 822.0 | 2.4 | 917.6 | -10.4 | 10- m' P5 n. Z* s7 Q5 h2 W8 [
| 9# h1 l3 H, @+ K: l# m* |3 [
| Nikon | 636.3 | 1.9 | 1,006.8 | -36.8 | 0 @. P9 z1 H' Z" x4 m! X( @
| * ^8 }% D" s. M0 \3 ]
| 其他 | 10,243.5 | 30.3 | 12,296.1 | -16.7 |
$ o, t; Z8 P0 j | & [- I% ?1 U: p& h/ m4 u$ V
| 總計 | 33,778.0 | 100.0 | 38,154.2 | -11.5 |
資料來源:Gartner (2014年4月) / D. @- p8 K* k' ^2 v
Rinnen指出:「值得注意的是,前十大廠商的市占率更進一步成長到70%,反觀2012年為68%。前五大廠商即占了將近全部市場的57%,較去年成長五個百分點。這些大廠的進展象徵小廠在競爭當中失利,同時也意味著設備市場越來越依賴少數幾家廠商。」 + z `' P3 h: Q% ~: n+ u& ]6 n+ F
2013年,晶圓級製造的表現優於市場,在乾式蝕刻、微影、製程自動化以及沈積方面顯得相對強勁。支出選擇性集中於升級與採購最新技術,產能增加很少。邏輯支出則集中於20奈米/14奈米製程的準備。僅少數子領域出現成長,最明顯的是微影領域的步進機(stepper)、非管式(nontube)化學氣相沈積法(CVD)、導體蝕刻(conductor etch)、快速熱處理與熱爐,以及某些製程控制領域(如晶圓檢測、瑕疵審核與分類)。
% K: N+ J) J7 P6 \' |" N* n: b, a在後端製程領域,所有主要類別皆呈大幅衰退。2013年第四季尤為遲緩,因為主要半導體封裝和測試服務(SATS)大廠皆因市場不確定性而推延訂單。 |