本帖最後由 tk02561 於 2014-4-9 12:22 PM 編輯
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表一、 全球前十大半導體製造設備廠營收排名初步統計結果(單位:百萬美元)
; _/ |" _5 Y6 }# Q8 C7 s9 B2013排名7 I2 R- j1 q0 V' {7 Y
| 2012! V5 _2 }1 p, P! s# ~% g" G( X% z
排名
* T2 O' N9 ~% K: Z | 廠商 | 2013年 營收 | 2013年 市占率(%) | 2012年 營收 | 2012-2013 年成長率(%) | 16 Q, p4 m: E4 k! b
| 1
$ z! p5 j# l) \+ C( N0 Q | 應用材料公司 | 5,460.1 | 16.2 | 5,513.4 | -1.0 | 2
- b6 S6 g2 t0 R# Y% e* F | 29 [. Q: Y6 i, U8 x. k: \
| 艾司摩爾ASML | 5,302.8 | 15.7 | 4,887.5 | 8.5 | 30 s. K& s+ K; s& ~
| 4+ @" B. v$ q# _% U) F9 z
| 科林研發 Lam Research | 3,163.4 | 9.4 | 2,805.7 | 12.7 | 40 H$ V( H' x- {2 ?# L$ N
| 3( J6 G, d( Z; n2 s- P1 d4 s
| 東京威力科創 | 3,057.1 | 9.1 | 4,219.0 | -27.5 | 54 ]/ z4 ~# V: [- u: `
| 56 c8 A: f- K% \0 `
| 科磊KLA-Tencor | 2,163.4 | 6.4 | 2,463.5 | -12.2 | 6
6 {& J' O O0 e& O7 E, T1 H | 6
% H) A* }+ e/ b$ [- L7 l. C( D | Dainippon Screen | 1,222.7 | 3.6 | 1,483.6 | -17.6 | 7
# H7 K% ^* I2 A2 |$ X- v) O& w | 87 m/ y) G, C8 y
| 日立先端科技 | 862.0 | 2.6 | 1,137.7 | -24.2 | 8
* B8 f0 L# l4 s# M- R. t$ X, r | 7
8 l0 q8 q2 ^- y6 y$ U | 愛德萬Advantest | 844.8 | 2.5 | 1,423.4 | -40.6 | 9
- t8 N" J5 W3 e% B& ?; A6 v% A- F. r | 119 x9 [2 ~1 X! [+ `
| 泰瑞達 | 822.0 | 2.4 | 917.6 | -10.4 | 10' u2 l* p7 t i! O; |& B3 U
| 9& u2 B/ P( |1 H) q# I5 ?* J
| Nikon | 636.3 | 1.9 | 1,006.8 | -36.8 |
6 q5 ]4 U) W4 H. d" H0 r! S | 7 P) c9 P) C; P
| 其他 | 10,243.5 | 30.3 | 12,296.1 | -16.7 |
6 Q0 n" U g# I: T( ^ |
9 t6 W( e) y& _8 _1 J0 z+ V/ K | 總計 | 33,778.0 | 100.0 | 38,154.2 | -11.5 |
資料來源:Gartner (2014年4月) ' M% E E: _7 `# ^$ z, H
Rinnen指出:「值得注意的是,前十大廠商的市占率更進一步成長到70%,反觀2012年為68%。前五大廠商即占了將近全部市場的57%,較去年成長五個百分點。這些大廠的進展象徵小廠在競爭當中失利,同時也意味著設備市場越來越依賴少數幾家廠商。」
8 W# {$ B9 k$ O- j( v2013年,晶圓級製造的表現優於市場,在乾式蝕刻、微影、製程自動化以及沈積方面顯得相對強勁。支出選擇性集中於升級與採購最新技術,產能增加很少。邏輯支出則集中於20奈米/14奈米製程的準備。僅少數子領域出現成長,最明顯的是微影領域的步進機(stepper)、非管式(nontube)化學氣相沈積法(CVD)、導體蝕刻(conductor etch)、快速熱處理與熱爐,以及某些製程控制領域(如晶圓檢測、瑕疵審核與分類)。 6 V: L' t. [1 _+ R
在後端製程領域,所有主要類別皆呈大幅衰退。2013年第四季尤為遲緩,因為主要半導體封裝和測試服務(SATS)大廠皆因市場不確定性而推延訂單。 |