美日大廠NF3供給遲緩 南韓廠商OCI Materials趁勝追擊 積極擴增產能

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(台北訊)三氟化氮(NF3)是一種溫室氣體，但也是半導體及TFT LCD生產製程中重要的工業用氣體，由於其具備清潔化學氣相沉積(CVD)製程以及乾蝕刻(Dry Etching)製程矽化物的特性，而成為目前半導體及面板產業關鍵的特殊氣體。

DIGITIMES Research資深分析師兼副主任黃銘章分析，由於半導體晶片及面板近10年來價格快速下跌，相關上游材料及氣體除非有近似寡佔供應的情形，否則平均價格亦跟進大幅下跌，以NF3為例，2001至2010年的年平均價格跌幅約為25%，近年來每年亦大約是20%或更高的跌幅，因此導致多數廠商不願意擴產，也造成日本311地震雖然並未造成日本供應廠商嚴重受損，但已傳出NF3供應吃緊的警訊。

黃銘章分析，日本在2010年佔全球NF3的產能供給比重為34%，與2005年相近，倒是之前的第1大廠美商Air Products，佔有率從2005年的38%下降至2010年的22%，新興的業者即為南韓業者OCI Materials，2010年其全球實質產能佔有率估計為35%，2011年可望超越40%，至2013年因產能較2010年擴大1倍，全球佔有率預計將增加至48%。

OCI Materials敢於積極擴產的主要原因是其客戶基礎穩固，該公司50%以上的NF3銷售給三星電子(Samsung Electronics)、海力士(Hynix)及LG Display等南韓大型半導體及面板廠，近期更伺機擴大在台灣半導體及面板產業的出貨量佔有率。

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由於OCI Materials在生產線設計上著手並成功降低成本，再加上大規模擴產帶來的規模經濟效應，2010年OCI Materials公司的營業利益率高達33%，遠高於競爭對手17至30個百分點，因此黃銘章認為，日本311地震後隨著其大幅度擴產的腳步，在營收及市佔率方面可望有正面的發展。

相對地，台灣目前僅有台塑一家本土公司生產並供應NF3，但預估2010年其年產能不及OCI Materials的10分之1，從此一面板及半導體製程用關鍵氣體的市佔率消長，亦可看出南韓在面板及半導體上游供應鏈更為紮實的產業基礎。