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《從2D SOC看3D IC設計系列》唐經洲/張嘉華/吳展良著

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1#
發表於 2010-9-12 11:27:27 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
從2D SOC看3D IC設計─3D IC設計(I) 市場趨勢篇; k& k4 o4 a+ g
作者:唐經洲/張嘉華/吳展良著
年份:2010年 版
ISBN:9789866184116
書號:EE0371
規格:16開/平裝/單色
頁數:432
出版商:滄海書局
定價:$520元
線上價:$468元
9 K& Z7 h% K7 T! d5 j! \
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2#
 樓主| 發表於 2010-9-12 11:31:30 | 只看該作者
; G9 Q; M5 }  p
消費性電子產品持續朝向小型化、高效能、高整合、低功耗及低成本方向發展,3D IC技術是目前唯一能滿足上述所有需求的關鍵技術。根據Yole Development預測,自2009至2012年,3D IC晶片市場的年複合成長率更將超過60%,3D IC晶圓的出貨量更將在2012年達到1000萬單位。台灣紮實的半導體製造能力和聚落環境,已經在2D IC產業和市場上創造成功的台灣經驗。
唐經洲: `7 t$ e9 P3 s: C! ]
現任:南台科技大學 電子系 教授
& i5 W! |7 K7 Z! d. {; _學歷:國立成功大學電機所博士# |& s1 p% \6 h  i
經歷:工研院晶片中心特助 (2008/8~2009/12),半導體產業推動辦公室副主任 (2009/01~2009/12),南台科技大學 電子系 主任(2001/07 ~ 2005/07),笙泉電子外部獨立董事(2010/07~)。
. M2 Z% W9 A  H9 b研究興趣:低功率高速電路設計、數位電路可靠性設計、IDDQ 測試、深次微米電路後端設計流程整合、混合訊號電路佈局設計、單晶片微處理機/嵌入式系統、光學微影工程: (曝光梯度、光罩錯誤增強因子、製程視窗)、奈米製程光學鄰近補償 (OPC)、薄膜電晶體 LCD 測試樣本產生器設計、電子藝術、3D IC 整合、消費性電子產品創意設計。4 U6 L$ ~) p+ _* ^8 g) H
其他:相關學生專題:國內外獲獎超過49件、發表論文:期刊(23)/會議(76)、專利:5件(Filed) /9件(Apply)、出版圖書:8本、證照:5張、受邀演講:21場
. t$ q, ]9 r* X. s5 o: f! d. @( f& R# \- v1 P8 _0 Q
張嘉華
) B% ^% S: M$ `$ _* s- S6 ^最高學歷:國立成功大學 工業暨資訊管理研究所 博士
( ]1 ~' C- p( `. e% K7 Y現任:南台科技大學 管理與資訊系 助理教授0 _7 P$ o- V5 J2 C* K# G8 R& K+ u: C
經歷:國立成功大學 附設空中商專 講師、南台科技大學 管理與資訊系 助理教授、南台科技大學 管理與資訊系 電子商務組組長、美國堪薩斯州立大學 工業與製造系統工程系 訪問學者; m% q3 W4 N5 @$ D) X" G5 m
專長:供應鏈管理、 系統分析與設計、企業資源規劃系統、半導體市場分析與預測& d2 |- @6 o0 x  A' e2 n
, \' X, x2 w2 Y9 d# h! e
吳展良
# F: j% Z+ L8 ?學歷:南台科技大學 電子工程系 研究所
/ g; N% {+ D& T1 F現任:奇景光電股份有限公司 IC設計中心 大陸佈局課 副理0 `" c, y7 C) e( {( d; k
專長:HV、Mix-mode IC Layout、LCD display Driver IC Layout
. i. m- D- D; q7 O2 z9 d經歷:2003/7任職奇景光電 佈局部 課長一職3 Y- z+ l; Q9 r# T, T
受邀演講: " S% a9 u/ F* y& [, I
 2004/4半導體學院IC Layout座談會 (邀請單位台灣 成功大學/ 經濟部工業局)。
4 O2 u7 z. A* l$ P& P$ u+ j' v! J 2005/4 科學工業園區人才培育補助計畫擔任IC Layout課程顧問(邀請單位 南台科技大學 電子系&經濟部工業局)。
. P2 m( y1 n( a+ v' K3 I 2005/9 2005佈局技術研討會 演講 (邀請單位思源教育基金會/CIC/交通大學)。+ H, C* F' u+ ~) a
 2006/4 半導體學院課程說明會 (邀請單位 工研院資通所),; g8 s! W! m- V
 2006/5 半導體人才需求以及設計領域課程規劃 (邀請單位 經濟部工業局)。- o, o+ _7 U( D6 h
 2007/7積體電路佈局設計職能建構規劃會議 (邀請單位 經濟部工業局)。8 {; i  {* K6 a* j6 `# Y
 2007/6~8擔任半導體學院 IC Layout講師 (邀請單位 經濟部工業局)。! h) b" x  F+ N. Z+ z" B' t/ E
 2009/8 上海 SpringSoft Community Conference (SCC) 全球巡迴技術研討會,主講 Himax IC Physical design。* D& Y5 O3 |! R$ F5 {) B
 2010/1 成功大學/教育部顧問室 DAT 聯盟超大型積體電路可靠性設計課程推廣研討會 主講 積體電路實體佈局上的可靠度考量 。
) t$ N5 V' y) V/ b3 f4 \ 2010/6 PAL 聯盟、勤益科大。
' I: L9 E( m" P/ E: R5 o 2010 年奈米佈局產學座談會,IC Physical Design 專業與附加價值。
) Y- K6 [- I( z# p& X4 _, v% D
1 簡介 (Introduction)% N* f: m3 o; ?4 p
2 為何要用3D IC (Why 3D IC) ?
" t* f& E2 H  Z& F3 國際聯盟與發展藍圖 (Consortium & Roadmap)9 q$ w) f) a' y: x( T
4 市場與產品評估 (Market/Product Survey)) [) `' g0 F1 x: C* S- Q
5 同質整合設計 (Homogeneous Integration)7 n8 @% Y( y0 q- B
6 異質整合設計(I) (Heterogeneous Integration (I))0 s# t0 F; r* ?. |% }8 Y
7 異質整合設計(II) (Heterogeneous Integration (II))
3#
 樓主| 發表於 2010-9-12 11:33:16 | 只看該作者
從2D SOC看3D IC設計─3D IC系列(II)製程技術篇
: o: D8 ?6 r1 Y% U$ o
作者:唐經洲/張嘉華/吳展良著
年份:2010年 版
ISBN:9789866184130
書號:EE0372
規格:16開/平裝/單色
頁數:472
出版商:滄海書局
定價:$560元
線上價:$504元
, c' k8 c$ X- Z4 \) i
" z5 X1 ]+ Z; h" A
1 3D IC 製程技術概要 (3D IC Process Overview)
" T' t8 y2 n; G6 c6 S2 晶圓薄化製程 (Thin Wafer Process)
4 a' Y+ ~2 _3 Q& F3 晶圓鍵合 (Wafer Bonding)2 E7 X" a% e. P1 j% n5 J; l! L
4 TSV
製程
(TSV Process)
0 X- b3 _3 S/ h9 D5 3D IC
EDA
設計上的考量
/ l1 b& H$ |2 p: F- X* [6 U! o, q6 供應鏈 (Supply Chain)3 M% m* X6 m( c' H8 N/ n0 m
7 3D IC 的標準化問題 (3D IC Standardization): h3 n: X. Z8 ?/ @8 |" P
8 迷思與挑戰 (Myth vs. Challenges)
4#
發表於 2010-10-28 11:32:22 | 只看該作者
It seems it is a good book to read.
5#
發表於 2021-10-20 13:21:30 | 只看該作者
謝謝分享^_^- S/ w" M! c/ ~- N# P3 \
謝謝分享^_^
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