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ATMI 與客戶合作,開發出應用於半導體生產製程的清洗劑。透過 ATMI 的高效率研發(High Productivity Development)設備與「12 個原則」方法,研發團隊得以發展出全新、低臭味且對環境無害的配方,創造高效率、低成本的線上清洗方式。基準清潔(Baseline cleanliness) 對積體電路 (IC) 製程環境來說,是至關重要的部分,而隨著越來越多的先進電子產品尺寸要求輕薄短小化,晶圓處理環境中的晶圓表面與其他表面的清洗更顯關鍵。除安全與環境考量外,與過去的方法相比,該產品強化的清洗效能在不影響良率的前提之下,不但可提升生產率,對製程更無其他影響。7 C- ^, l! P; L
% z; f. V) v6 Z* S+ |「我們的高效率研發(High Productivity Development)能力持續且快速地為合作夥伴與客戶帶來突破性的解決方案。」ATMI 執行副總裁暨微電子事業部總經理 Tod Higinbotham 特別指出。「我們很高興能夠朝此方向努力,有效地達成客戶的需求。而達到 EPA 標準並榮獲 DfE 標章,更是我們積極邁向化學及材料發展的第一步。」7 N0 ~# V8 t6 W; j1 g* n5 H/ E. E
( ]7 P5 {1 Q4 `, v6 J) Y. t& ~關於 ATMI
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! ~- K" T$ [4 d+ F! TATMI, Inc. 提供專業半導體材料,以及安全、高純度材料處理與運送解決方案,為全球半導體、面板產品與Life Science產業推動製程效率。如需瞭解更多資訊,請前往 http://www.atmi.com。 |
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