請教：VIAn 對寬金屬導綫應力釋放和減小的影響

CHIP321

在需要製作wide metal時候， 出于對 Stress 的考慮，大多數廠家都會有min wide和挖slot的設計要求。對slot尺寸也有嚴格要求。但是電流流向複雜，或者電流非常之大的時候，這些SLOT對導綫過電流能力有很大的影響。
之前在學LAYOUT時候，好像有前輩提到，在鋁導線，未使用CMD之前，由于VIA bar 會造成meatl表面凹凸起伏，使各點應力矢量之和降低，起到降低整體應力水平的作用。
6 o% \- ^. w9 L$ j& O/ m所以在大量使用VIA的POWER line上可以去除slot，而在IR 等大廠的片子中，我們的確發現有這樣處理的，但是因為沒有做過可靠性方面的試驗，也缺乏嚴格數理推導支持。同時，使用銅導線及新的平坦化措施也對結果有不可忽略的影響。
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- j* d# H4 Q3 a+ U: K* v, w- ^5 A所以想請教罎子里的各位前輩，
0 _$ g7 H8 X- ~. \5 {8 z1 VIAn對寬金屬導綫應力釋放是否依然有效？
2 如果VIAn對Stress釋放無效，那么對於PAD上大片金屬覆蓋為何不會導致由於Stress而導致失效？（PS Power line Stress 引起的失效的確存在！而PAD上很少聽說有類似的情況）
1 Y% S6 W6 Q8 ]3 如果VIAn對Stress釋放有效，那么VIAn的數量如何確定，在銅互聯情況下，由於Stress而導致在有VIAn的地方出現metal斷裂是存在的，是否可以說
3 f0 e- K4 Y* w( m  VIA 的數量也不可以無限增多？

5 g& `9 i4 s, l/ m  {5 A檢索到一些論文，但是目前暫時還沒有權限DOWN到，列出目錄，供大家參考了。
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外文会议 Stress-induced voiding beneath vias with wide copper metal leads 2004  
外文会议 Stress-induced voiding in multi-level copper/low-k interconnects 2004  
外文会议 Stress-Induced Voiding in Multi-Level Copper/Low-k Interconnects 2004  
外文会议 New Degradation Phenomena of Stress-Induced Voiding inside Via in Copper Interconnects 2007  
* A' _: b+ W/ S外文期刊 Suppression of stress-induced voiding in copper interconnects 2002,vol.102(no.637)