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[問題求助] DMOS的高壓阱耐壓可比VDS耐壓高出多少?

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1#
發表於 2009-10-10 14:36:57 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
向大家請教一個問題!
8 [. f% }# ~: h) Q5 L! l我們使用的25V-BCD工藝中,DMOS的Vds的擊穿電壓典型值為30V。我們想用DMOS輸出35-40V的電壓,此時Vds大約10V。但工藝文檔�沒有提到高壓阱和襯底之間的耐壓資料,理論上說這個資料應該比Vds要高,但不知道要高出來多少。. b0 ?( u1 O2 T; b- n
如果這樣使用的話高壓阱和襯底是否容易擊穿?8 d. `* }6 G' V
不知道大大們有無類似的用法,或有類似的設計經驗,希望不吝賜教!
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2#
發表於 2009-10-12 08:18:52 | 只看該作者
不太保险??

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參與人數 1 +2 收起 理由
lynker + 2 谢谢!

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3#
發表於 2009-10-14 11:11:43 | 只看該作者
一般高个5V可以冒险试一下,但是这里高了10~15V,不推荐!

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參與人數 1 +2 收起 理由
lynker + 2 十分感谢

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4#
發表於 2010-3-30 16:17:18 | 只看該作者
就算可以用可靠性也会变很差
5#
發表於 2016-5-11 05:57:42 | 只看該作者
還要注意電壓SPICKES─可能遠遠超出耐壓範圍!
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