本帖最後由 tk02561 於 2014-4-9 12:22 PM 編輯
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( T, K; y" n" d5 p6 ]: c表一、 全球前十大半導體製造設備廠營收排名初步統計結果(單位:百萬美元)
4 i+ m+ V7 K* w- M# N3 d2013排名
' w! a; N4 z! y8 M* X1 Y | 20123 p. X) W9 m; C. t4 m# j
排名/ T y. U d# S
| 廠商 | 2013年 營收 | 2013年 市占率(%) | 2012年 營收 | 2012-2013 年成長率(%) | 1
7 {/ P9 v' \+ Z' r, l | 1
8 M& i! O! p8 M" l* F1 ^5 ` | 應用材料公司 | 5,460.1 | 16.2 | 5,513.4 | -1.0 | 2+ r1 y. I- f5 x% }
| 2$ l' n @& g: q3 ~/ K4 {
| 艾司摩爾ASML | 5,302.8 | 15.7 | 4,887.5 | 8.5 | 3
& ]; s0 @4 J; k3 f% R1 f, {0 G8 N | 4
; X& L+ ~/ G' b( \9 W& l: ]1 ~( a | 科林研發 Lam Research | 3,163.4 | 9.4 | 2,805.7 | 12.7 | 4% L" \9 U+ I, Z9 ^8 g# U
| 3* ^/ |& r- e3 O F1 A( B9 K
| 東京威力科創 | 3,057.1 | 9.1 | 4,219.0 | -27.5 | 5
# J- B" `& K2 x" u' M | 58 g9 E& K2 F4 Z8 x/ ?* b
| 科磊KLA-Tencor | 2,163.4 | 6.4 | 2,463.5 | -12.2 | 6
9 ^: w6 r$ i$ o9 b; ~/ g | 6+ A! T9 H! ~8 T7 D, C# O5 k
| Dainippon Screen | 1,222.7 | 3.6 | 1,483.6 | -17.6 | 75 ^; m/ i, |- S. k% ]3 B
| 8
$ A# K8 c- ~! O4 W' y; y | 日立先端科技 | 862.0 | 2.6 | 1,137.7 | -24.2 | 8: c% N/ C+ f7 d, J, |: m
| 7
8 t0 X' a; \2 Z* t9 I | 愛德萬Advantest | 844.8 | 2.5 | 1,423.4 | -40.6 | 9
8 w- R1 U. Q; u4 ^2 u0 h | 11
8 z8 d+ S+ Z" h8 ?- H) i$ _ | 泰瑞達 | 822.0 | 2.4 | 917.6 | -10.4 | 10
B. z: `) K! u; q T& ^8 G& K | 9! {: c+ ?4 ^: A" \$ z2 W: }
| Nikon | 636.3 | 1.9 | 1,006.8 | -36.8 |
$ Z8 e$ p0 j" Y! j3 M |
; o5 l1 t) A$ o; s | 其他 | 10,243.5 | 30.3 | 12,296.1 | -16.7 | 5 S! _( r! u; }( {4 a; {2 H
|
, c/ P" Y7 c8 P! @# Y | 總計 | 33,778.0 | 100.0 | 38,154.2 | -11.5 |
資料來源:Gartner (2014年4月) $ V9 O* T( [' {
Rinnen指出:「值得注意的是,前十大廠商的市占率更進一步成長到70%,反觀2012年為68%。前五大廠商即占了將近全部市場的57%,較去年成長五個百分點。這些大廠的進展象徵小廠在競爭當中失利,同時也意味著設備市場越來越依賴少數幾家廠商。」 % k$ ~. A! |( i7 C5 I" a
2013年,晶圓級製造的表現優於市場,在乾式蝕刻、微影、製程自動化以及沈積方面顯得相對強勁。支出選擇性集中於升級與採購最新技術,產能增加很少。邏輯支出則集中於20奈米/14奈米製程的準備。僅少數子領域出現成長,最明顯的是微影領域的步進機(stepper)、非管式(nontube)化學氣相沈積法(CVD)、導體蝕刻(conductor etch)、快速熱處理與熱爐,以及某些製程控制領域(如晶圓檢測、瑕疵審核與分類)。 - Z: U; ^3 o& M0 h5 H2 H; R
在後端製程領域,所有主要類別皆呈大幅衰退。2013年第四季尤為遲緩,因為主要半導體封裝和測試服務(SATS)大廠皆因市場不確定性而推延訂單。 |