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[問題求助] DRC 出現的錯誤

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1#
發表於 2008-1-6 23:58:36 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
在DRC時有兩個錯誤不知道如何解決,又看不懂希望能給我解答。$ }' l1 O5 T) n1 b  g9 V/ ]
謝謝!!* X9 a. M5 h1 ~. K' J
1. PO.R.1 { @ Min poly area coverage < 14%8 d8 |7 V2 j# W; Q& O8 s
   DENSITY POLYI INSIDE OF EXTENT < 0.14 PRINT POLY_DENSITY.log3 J  J* b+ A* q/ u* O
}/ W2 F. q+ ?9 _2 J7 C; a& p' j
2. M1.R.1 {@ Min M1 area coveger < 30% % h4 J+ c3 Y: ]4 _  X
   DENSITY M1I INSIDE OF EXTENT < 0.3 PRINT M1_DENSITY.log5 D# b  H( G4 e
}
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2#
發表於 2008-1-7 00:24:58 | 只看該作者
如果你是要下晶片,那最後有多餘的空間上補上poly &metal1即可
% Y  V  z  Q! j) M# H1 B如果你不需下晶片,那這個跑DRC時可以忽略6 q0 O; U" |% Y/ c6 J) ]
PO.R.1==>poly面積佔總layout 小於14%
/ @  {7 |( N2 t" u4 F% S' J. X$ X1 IM1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於14%
3#
發表於 2008-1-8 09:54:33 | 只看該作者
說的沒錯,但好像有筆誤:
0 ]( g* ~3 [. M; J! `9 a  j" d% uM1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於14% ---> 小於30%
4#
發表於 2008-1-8 17:08:51 | 只看該作者
一般 POLY & MT1 density 不夠應該是 whole chip device 不多造成,如果 chip 還有面積的話,建議加一些 VDD<->GND MOS CAP ,如此可以同時提高 POLY & MT1 density .
5#
發表於 2012-2-3 19:05:14 | 只看該作者
小弟的淺見...- X3 R# h' y1 ?9 v# ~
這應該是poly與metal的density的問題....
2 B* u) X# f! `PO.R.1==>poly面積佔總layout 小於14%& b) D* J, H2 d1 k) v
M1.R.1==>metal1面積佔總layout 小於30%
+ U8 s5 O8 m/ M7 ?( [% C- c+ h好像增加poly跟metal1就可以解決的樣子
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