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[問題求助] 请问在mim电容下放器件需要注意哪些呢?thanks

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1#
發表於 2009-5-12 22:06:49 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
我准备用smic .13或tsmc.18 1p6m rf工艺,
' h# Q, x% L7 z% f) L0 ~需要在mim电容下面放器件来节省面积,: p! n! e7 H1 W6 |7 {
有这么做过的大大讲下需要注意哪方面呢?
' b+ y$ P+ y# ~2 K$ z谢谢
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2#
發表於 2009-5-18 11:37:30 | 只看該作者
几层金属的工艺呢?如果金属层够多的话(5M,6M),建议在电容和底层器件之间加层GND的金属进行隔离,然后下面放器件这样屏蔽比较好。但是注意器件和屏蔽层的寄生电容。
6 P3 j1 @- G9 _7 w# n6 S8 U如果没那么多金属层,不能屏蔽的话,电容下面放电阻,问题应该不大。
5 ~: Z9 L; u- I) r电容下面要是直接放置管子的话,可能要具体问题具体分析了。看楼下的大大们的建议了,我也只知道这些。
3#
發表於 2009-5-18 23:32:40 | 只看該作者
其實以MIM cap來說
) u' O) F9 H! l& U正常是用到最上面兩層(ex.1p5m 用m4, m5)
; n$ V: c' t* n' ^所以基本上寄生電容已經很小了6 ~; W' q3 b+ p3 c1 }) _! `/ I5 U
當然如果能做shielding更好
4#
 樓主| 發表於 2009-5-23 14:43:15 | 只看該作者
哦。现在改用1P8M了,我准备在5M,6M加两层金属地屏蔽,. Z1 F. k5 M$ B4 h3 Y. ?/ F: V! J
我下面准备放置管子,及电阻,
/ q3 h& V! q2 T- ~1 ]4 d$ w用软件提取参数仿真时不知道可不可以提取出方面参数的影响?
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