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[問題求助] 现代的高压ESD

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1#
發表於 2007-5-30 22:24:52 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
最近要用到现代的高压ESD,有谁可以提供一些参考吗?
  y' Q( ]4 {& ]+ C% {# ?因为现代那边没有提供高压的ESD rule,自己画的时候不太敢随便画,,
5 r2 y  ]' c  W9 \希望有经验的前辈能给点建议,大致的rule可以建议一下吗?
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2#
發表於 2007-5-31 08:22:21 | 只看該作者
可以請問一下你所指的高壓ESD 是幾KV阿) O5 @2 p7 u( P; ]2 L1 h7 O
可以盡量寫清楚嗎...感謝
3#
 樓主| 發表於 2007-5-31 14:14:43 | 只看該作者

.........

我想先問一下阿,平常的工作電壓是20v,那對於ESD的畫法應該也會有差吧?3 r5 r9 C! ]1 t/ b; V4 L
我的高壓是指芯片平時工作時的電壓是20v,而ESD的承載電壓,
( ^; ~+ D7 W# T是HBM2KV,MM200v,+ S' e8 W7 E1 q/ E5 t! i. t  S3 M
如果能給我一個答復,我感激涕零,
* A1 p- _. s" `0 B  ]% m) d但是不好意思,沒有米米的回報,因爲我的已經是負的了

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sjhor + 2 沒關西!!歡迎發問!!

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4#
發表於 2007-6-1 08:56:07 | 只看該作者
其實用普通的 CMOS ESD protection 就可以唷!!8 E" e1 D- r# e& t7 Q8 d  M
PMOS/NMOS 的 diode 就可以了! 10V/per 1um width 應該就可以約列算出你所需要的 size!!. M1 M4 E& Y  {
再加上 VDD/GND 的 ESD Clamp circuit 應該就可以了!!0 F/ x: S/ V$ h
不過  大部分的人 PMOS/NMOS 的 size >=300Um,  以3KV來設計比較好唷!!
5#
 樓主| 發表於 2007-6-1 13:57:40 | 只看該作者

感謝

呵呵,謝謝版主同志,
3 D5 j4 ?: c; u. u. A' x+ m, T% D不過不同的工藝,我是怕ESD的rule待會不滿足,
- D. [3 d! H; z1 ?& C5 |) D比如説D端contact到gate poly的距離大致怎麽來決定,
2 @+ D* G6 E/ b/ k( {# _D端或者S端到guard ring 的距離我又大致可以設為多少呢?
4 R4 e! |( Y- v* t1 F7 Q9 c雙層guard ring之間的pitch又是多少,然後guard ring的diff的寬度要多少呢?; R) p" @9 F$ v2 d( Q
版主同志,麻煩你再告訴我一下哦
6#
發表於 2007-6-7 18:29:08 | 只看該作者

回復 #5 amanda_2008 的帖子

請您先告知大家,您要下的fab是哪家,什麼製程(process),這樣才好回答您。
4 T9 H9 O$ U5 ^每家的參數數值都不太一樣。+ }9 V4 ?* L5 I# i, c6 V
# ?8 a4 z) f' W' z& c
如果您手邊有該家fab的design rule manual, 裡頭應該會有ESD design rule。
7#
發表於 2007-8-1 21:18:44 | 只看該作者
一般代工廠都有ESD rules,只要照話就好了,或是請帶工廠提供也可以。
9 E; c7 Z# u& i, G# Z+ G# D, N
4 v* [  j3 n) A( s" Csource contact 照rules話就可以了,drain contact 一般約為source contact 3-5倍不等。
- Y+ Q9 S) K0 f' r7 |2 A! Z0 A
1 {0 Y4 o" B: G; Zpick up 與guard ring之diffusion約為4um,pitch 一般10-20 um 不等,以上為一般之經驗,詳細需參考foundary之 design 4 n9 z& t+ h" J& q5 t) Q
guide。
8#
 樓主| 發表於 2007-8-22 21:52:22 | 只看該作者

谢谢

谢谢大家的热心答复
1 E& z: i* P" z+ Z( U0 X( n) \3 G嗬嗬,我在题目里有标说是现代的哦,! y* ]) U) u3 _# @, A
其实有时候代工厂可能没有你现在要用工艺的esd rule,
0 f7 @" _5 B% E' n# C$ j所以这个时候就只能凭经验来画了
9#
發表於 2007-12-11 19:54:31 | 只看該作者
多謝!" c! k$ F4 k1 Q7 ~. y0 m) p* X
謝謝版主了,又了解了新知識了呢!; Q. J9 n) s/ L- @9 [
扫扫盲,呵呵。
10#
發表於 2008-10-23 09:35:29 | 只看該作者
原帖由 sjhor 於 2007-6-1 08:56 AM 發表
4 s8 k7 h) c! b5 e9 x& O其實用普通的 CMOS ESD protection 就可以唷!!
7 J% \$ `9 U2 F" ^" YPMOS/NMOS 的 diode 就可以了! 10V/per 1um width 應該就可以約列算出你所需要的 size!!1 y* B" r9 H  J7 e) A& N$ T
再加上 VDD/GND 的 ESD Clamp circuit 應該就可以了!!4 Z& R9 s+ j! H% }
不過  大部分的人 PM ...

! B2 c; v- k2 s& z5 l
3 d, F4 j* `5 r0 O6 E  t"10V/per 1um width "有疑义,因为比如W=300um,L=0.5um与L=0.35um应该有很大差别吧!
11#
發表於 2008-10-23 12:23:46 | 只看該作者
如果是高壓的FDMOS,難度更高!因為這種device天生不利ESD.
12#
發表於 2009-8-5 19:50:29 | 只看該作者
原帖由 sjhor 於 2007-6-1 08:56 AM 發表 + C- x2 o( h5 \! `. C: M: ]5 b0 e8 K* Q
10V/per 1um width
' X  x+ C. x0 k* P; x5 `: {) ?
( @9 G' e0 X6 o2 ]! C$ h2 M
这个值是怎么来的呢?
13#
發表於 2011-7-19 12:30:31 | 只看該作者
L為最小的通道長度,一般而言,通道長度愈小,靜電放電防護電晶體的耐受度愈小。增大通道長度可使靜電放電耐受度提高。但是必須同時增大防護電晶體的寬度。如此一來便會使佈局面積增大而使成本增加。
14#
發表於 2012-7-12 12:16:35 | 只看該作者
学习学习!!!!!!!
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