|
歡迎報名4/21~25 2008 VLSI 研討會
2008 國際超大型積體電路技術、系統暨應用(VLSI-TSA)及設計、自動化暨測試(VLSI-DAT)研討會
' K% T! y7 Q5 }7 a時間:2008年4月21日至25日+ s6 k+ x) @+ M8 w+ h6 y" N
地點:新竹國賓大飯店(新竹市中華路二段188號)
0 g4 n- Q+ _4 d[ 本技術研討會以英文報告 ]
, R5 ~2 |- o/ K0 L0 Q8 E
1 H0 c2 {! J. C由工業技術研究院主辦的VLSI-TSA自1983年起每兩年舉辦一次,25年來的努力與堅持,使得該研討會被國際專業人士認定為積體電路領域重要研討會之一。鑑於亞洲IC設計蓬勃發展,自2006將其設計、自動化與測試部分獨立為VLSI-DAT;而在VLSI-TSA中加強製造主題的探討,提供全球海內外學者專家及高科技廠商一個最佳的技術交流機會與平台,期盼透過此豐盛的技術饗宴,提昇台灣在尖端科技領域中的國際地位。5 j |4 V% Z5 |" s( }
3 a! l8 U7 D A6 E( W
一、VLSI-TSA
5 _% _' W: r6 u' B/ V% s( A以技術與製造為主: R, f$ ~ Z/ ^" i, y
2008年4月21-23日' y" c. K8 @& ~+ l) O% T' T6 X
議程簡介:
9 W: J! a; {' h( Y4 C& u: _1. 精選全球頂尖論文54篇9 l5 T' H; I% [) k; U' o
2. 3場大師級專題演講(Keynote)0 p, \) } [% t; i+ I4 `) w
3. 2場有關Post-CMOS與High Voltage Device & Process技術的特別主題- @2 `! m2 i, _: v
邀請國際專家發表專題演說(Invited talk)& i- f& b" Q' M7 f3 V% A
4. 深度短期課程(Short course) -- DRAM, New Channel Materials vs. New Device Structures: E! D/ ? g3 x' n/ D# S( j0 o( m
5. 最佳學生論文獎(Best student paper award)" L$ ^9 t: E5 r* \2 W; r `
研討會網址:http://vlsitsa.itri.org.tw0 p3 `$ ^4 c" u* _( q
+ a3 K2 Q% s( Y' e( D4 _ K二、VLSI-DAT. q3 B' G+ F/ b/ m( l6 p5 M# X
以設計、自動化和測試為主
: ?# g9 }. S( {3 e( q& a" G2008年4月23-25日& W! F% z3 [* H4 q) V
議程簡介: e1 y+ k; e9 K1 M
1. 精選全球頂尖論文65篇# z4 A: J o3 ] T, y. E# H+ z
2. 3場大師級專題演講(Keynote)
* s0 b- O( U4 ]' ?8 u p3. 邀請國內外專家發表專題演說(Invited talk)
' I1 O# n3 b8 C4. IC設計業界知名廠商領先技術之研究成果發表(Industrial session)
7 f8 D) b0 ]7 @2 ?1 e; \4 T1 _5. 深度短期課程(Tutorial)4 \1 y1 z2 T' L& J7 L4 T# f
6. 最佳論文發表獎(Best presentation award)& r3 k) T! f* B1 s: _; N% |
7. 最佳學生論文獎(Best student paper award)
% `4 d |1 |9 ^; ?; T) e2 _研討會網址:http://vlsidat.itri.org.tw |
|