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就這問題跟幾個朋友討論了一下$ D* N" e. q5 H6 j) u
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得到以下結論- V9 {' q. a2 ^; v0 S, i
- ?( Z3 P6 K; ]% ?6 D目前的製程技術已經到哪邊了???
) [, k! a5 p- ]: L8 n你所需要的製程技術是否需要???
; `* W L$ I. g' }: o) L* ~DESING rule 都會注明是否可以使用45度角使用
c' E, O7 O0 \) O5 c0 C2 _1 L
7 F% p7 t6 x9 O0 e2 s4 }, J# l其實越先進的製程跟我們所LAY的圖已經差異很大了 ! T3 h. P) g1 K9 C2 ^
% i7 X# x8 B H7 o我們可能拉一條線 FAB廠可能就用了好幾層光罩圖 去補強
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( _3 i( k2 B! f5 V/ a" _/ L所以45度角的使用上也不至於這樣在意(高頻部份 我就不清楚啦)
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. S9 _, b8 W/ D6 F3 q重點在於你的MOS對稱性 那是不會改變的- E4 G9 B- n) P: ^) l6 [) c# b4 n
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如果對上述回覆有問題請多指教 謝謝 |
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