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[經驗交流] 懸賞100RDB:求解HBM VSS-PIN ZAP負電壓 與 PIN-VSS ZAP正電壓的區別?

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1#
發表於 2011-12-30 10:35:30 | 只看該作者 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
100Chipcoin
本帖最後由 CHIP321 於 2011-12-30 10:37 AM 編輯
5 _, z; P* ^+ ?$ Y! h0 ^/ D1 r0 ~: r7 ]6 j1 Z
多次測試中 : H( L, j# F( L; D$ H6 j
---------------------------------------------------------------------------------------------------------------+ ~/ C9 s% }0 F( p* r/ E' {0 O

: u7 D8 J5 u3 Z5 C1 D$ n' A7 n6 }# M8 D
VSS-〉PIN ZAP負電壓 與 PIN-〉VSS ZAP正電壓,測試結果有很大差異(2000v以上)。
/ \" j7 Z' y# }# o+ A. t% k! _) {2 ~  o: F8 q
疑惑很久了,也見過別的朋友提出過這個問題,誠心求解
& P( q+ u3 X- }7 E0 T$ f9 m; Z* d5 l4 \

4 U9 n2 D& I" e8 b----------------------------------------------------------------------------------------------------------------
! L. o/ O: K/ _" \1 mPS:, P+ Y# q' _% I  k( {6 X, k- I2 V: c
1假設電路結構是模擬+邏輯電路,無SR
3 H3 K( b0 A: T. b% M2已經做HBM仿真模擬,各個node又具備完全一致電壓差,電流值7 W- E5 k1 R" b1 _4 o
3考慮初始值,但是在HBM發生后1ns,左右很快會被上升電壓Reset: f  W# j, ^( R6 u
4 [; v% [& Q# @/ @

最佳答案

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我的理解如下,希望LZ采纳: 假定在线路中有一个MOS管,Drain接到Pin,Source,Sub接到Vss,Gate接到内部电路。 假定初始状态整个电路处于0电位, Pin-Vss正电压时,Drain端电位升高,由于Gate到Drain之间寄生电容的影响,Gate仍处于低电位,因此该MOS管处于关断状态; Vss-Pin负电压时,Source,Sub电位降低,由于Gate到Source,Sub寄生电容影响,Gate处于高电位,,此时MOS管处于开启状态; 如此,在两种测试方式下,MOS管的状 ...

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2#
發表於 2011-12-30 10:35:31 | 只看該作者
我的理解如下,希望LZ采纳:: [; w- E4 H* B. ?9 g" t

* Q! p- x8 H6 c* l% U. G+ {# z) z假定在线路中有一个MOS管,Drain接到Pin,Source,Sub接到Vss,Gate接到内部电路。( Y6 M' a- }, l
假定初始状态整个电路处于0电位,: b3 h+ [7 I9 `+ l" O# `+ K) N) C
Pin-Vss正电压时,Drain端电位升高,由于Gate到Drain之间寄生电容的影响,Gate仍处于低电位,因此该MOS管处于关断状态;3 W: v) ]) ]. N  l1 G% E$ M
Vss-Pin负电压时,Source,Sub电位降低,由于Gate到Source,Sub寄生电容影响,Gate处于高电位,,此时MOS管处于开启状态;
" |4 F3 T" }$ H! L8 ~  x% i& A# g4 W1 V8 s4 K9 ~
如此,在两种测试方式下,MOS管的状态不同,也就造成HBM结果不同。
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3#
發表於 2012-1-31 11:22:13 | 只看該作者
首先要先考慮電路佈局的問題: 1. 是否有其他寄生元件
5 t, p( S5 e* C                                                            2. Junction順逆偏造成的差異4 R2 f# S4 ?  A( T4 i, l% N, D% B
# E9 r* ?; Z  @. U+ l# r
再者如果是單顆元件應該有接近的HBM level+ ?  k2 {" G" @9 e4 d' D# [5 }
如果是複雜電路應該要以最小值來估算, 這才是這個電路真正的HBM level.
9 z5 U3 W! W* B9 C# E9 I/ S! Y6 u1 t5 }! C5 e
但是仍要考慮該電路實際應用面,是否會有遇到VSS-PIN負電壓的情況~
$ r0 A' W8 w( ~% A% ysystem level有時可以排除很多在chip level遇到的情況.
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4#
發表於 2012-2-11 11:44:34 | 只看該作者
多次測試中
$ \4 f) ~& r, e1 S. ?  ^4 p' U---------------------------------------------------------------------------------------- ...
8 |# O' N# n/ T3 n; cCHIP321 發表於 2011-12-30 10:35 AM

) N7 _! D' e, j! M
( ^8 g, h5 p4 e# m- y4 u" U看似相同的注入出现不同的结果,好奇怪,测试点的对称性
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5#
發表於 2012-2-11 11:45:16 | 只看該作者
应该是接地线的分布参数的问题我猜
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6#
發表於 2012-2-12 13:40:29 | 只看該作者
看以前这个帖子发现同样的类型问题,可以参考一下,希望Lz能共享事情发展的进展!!!
5 \9 g' L! ]' H: N5 v3 J. Whttp://bbs.innoing.com/thread-11817298-1-5.html
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7#
發表於 2012-3-7 13:58:03 | 只看該作者
沒辦法畫圖, 大家聯想一下或者自己畫張圖,2 C. u9 f/ T4 U0 C" X% M

3 `! L# E" u  C8 b舉例GGNMOS single device for HBM test
& ?) f, {; M5 S3 o' |4 nonly 2 pin (I/O and GND)
. ?! @1 [8 G4 ?0 p! h. E5 ]: I- P: N/ v  D
GGNMOS (drain-I/O; source & gate & sub - GND)
9 Q; X6 s6 W5 T0 H記住ESD一個重要rule, drain contact spacing會放大," f' r. B: q0 \
" |" H7 _& `2 r! A3 {+ A1 @1 Y* \
假設從drain(I/O)打正電壓, 因為cont rule有放大,HBM pass 3K
1 Q' l, d8 u  [) J) s3 X4 `; Q# ~反之, 從GND打負電壓, source cont rule沒有放大, 所以HBM<2K- a+ \$ M  v& M/ V4 |

$ p4 c! m' `6 N" e; Z+ \這是最簡單的情況下說明了, 如果是circuit, path更多更複雜,
1 W+ d( l& z) B; Z. p要考慮可能反過來打負電壓其實是沒有ESD bypass path~
4 x5 C. N7 W5 k! n& y
' ~$ F# r0 l4 W" _(這樣大家知道為何會有差異了嗎? 各位先進也可以提出其他看法)
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8#
 樓主| 發表於 2012-6-5 14:27:55 | 只看該作者
回復 7# marvel321
' l% I. g' [9 b) pDear,您的观点和我之前的理解的非常接近,但是这个才是我开始疑惑的原因。
+ u6 b* D& c3 g: `这个问题很多人遇到过.通过改善措施可以提高ESD LEVE,所以应用中可以避免回答这个问题。但是据我所知产生原因从来没有被清晰的解释。# m. J" S4 N0 k. K  }& t+ C
搜集到的可能的解释有:& m: w7 i9 T2 m
- t  ]* y# c1 ^2 M
1:“能量”传输接入点不同,一者是从VSS-PIN,一者是PIN-VSS(可能来自传输线理论,但是没有更详细的说明)
% q. O; ~! p3 G3 ?" C2 @; U: D2:从两个不同测试,不同端口看,电路拓扑结构不同7 d* J1 p, G, O5 X  D8 D) K
3:机台测试电路与测试模型是有差异的,差异导致不同
9 v6 ]  X1 q; _+ y; I2 z9 u9 S4:浮栅初始电位差异5 \) m% e1 l3 `! x6 f( p: I% g
$ i4 n  i9 l5 I- p
对于1,缺乏更完善描述问题的资料,不理解。0 T- v" f9 U: ?8 o) c
对于2,虽然拓扑不同,但是各个节点压差并无差异,会引起损坏不同吗?
& }7 ?! h6 K/ ]8 Z: W7 U对于3,缺乏资料,待验证$ G% a0 X+ U+ x- ^5 j% S( d9 k' A
对于4,我最认可的答案
0 b+ k' s( ]" i  ]
% A! G" O. F4 h8 S' n但是
; I! K% |# v. v0 H) x0 P# |6 T若ESD Devices Gate 与source未连接到一起,marvel sir描述的问题的确存在,而且的确是两者不同之处;甚至可能会由于锁定电路导致逻辑,Gate电压差异,如果这些电路加入在ESD控制部分,也可能导致差异,这些问题都曾经发生过。
* G% `& [+ Z! i$ K但是我们在ggmos中,未含有SR锁存器的情况下,依然遇到这种问题,则很难解释。
2 v% K- b. k* k1 `! a) @% W我们也对这种情况做了仿真模拟,事实上,即使把Gate上寄生电容电阻(包括线电容,线电阻)增大10倍,在脉冲发生时候,Gate电位在小于1纳秒左右即被重置,影响甚微。# w( a: |* o" v  F& z, a
而EMMI也依然证实ESD Device 挂掉了,使得之前的理论无法解释实验。姑且吧责任归结于机台了。9 d. h, I' |. K% }3 Q* I6 W
3 Y( w9 a# F0 o. i1 A6 O. K% _3 r
问题搁置很久了,感谢marvel321 sir,这个差异应当是确切而且贴近题目的。
1 U7 u; h1 _* p  L其它讨论也很有意义,但是还没有很明确证实对ESD 测试的影响
* F8 o" p. g( N& Y  K; F悬赏结束,但是还希望大家能继续关注这个问题,把好思路Share出来~,完善这个问题点。
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