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回復 7# marvel321
5 \. Q6 Z. [1 p/ |! f) MDear,您的观点和我之前的理解的非常接近,但是这个才是我开始疑惑的原因。
+ w* R" I: A& U! T9 ~1 {$ _这个问题很多人遇到过.通过改善措施可以提高ESD LEVE,所以应用中可以避免回答这个问题。但是据我所知产生原因从来没有被清晰的解释。
. M" @& |- U# A8 R, R. X% d) ?搜集到的可能的解释有:. T8 J2 ~- \8 v' G: h* X0 Z+ |
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1:“能量”传输接入点不同,一者是从VSS-PIN,一者是PIN-VSS(可能来自传输线理论,但是没有更详细的说明)* y. K5 l6 t6 z6 i/ U( u
2:从两个不同测试,不同端口看,电路拓扑结构不同
/ @* u6 ?" u& l3:机台测试电路与测试模型是有差异的,差异导致不同8 @7 U( u: w* A! c
4:浮栅初始电位差异2 g" K/ ]4 Q4 V
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对于1,缺乏更完善描述问题的资料,不理解。
4 N6 R& i7 i6 u7 a) x4 d' {对于2,虽然拓扑不同,但是各个节点压差并无差异,会引起损坏不同吗?4 k3 i! m: [. k$ n, @) M8 i
对于3,缺乏资料,待验证1 z$ ^1 ~. E, y6 Q
对于4,我最认可的答案8 e1 D% A( R0 z: {( R
) |* E2 e; y, E但是
$ c" p [ j' L4 g; G9 I4 c1 p若ESD Devices Gate 与source未连接到一起,marvel sir描述的问题的确存在,而且的确是两者不同之处;甚至可能会由于锁定电路导致逻辑,Gate电压差异,如果这些电路加入在ESD控制部分,也可能导致差异,这些问题都曾经发生过。
7 }% B, x9 B B% b+ Z) G8 A但是我们在ggmos中,未含有SR锁存器的情况下,依然遇到这种问题,则很难解释。" Z. M& F s( J
我们也对这种情况做了仿真模拟,事实上,即使把Gate上寄生电容电阻(包括线电容,线电阻)增大10倍,在脉冲发生时候,Gate电位在小于1纳秒左右即被重置,影响甚微。
. z U( I I9 P% x而EMMI也依然证实ESD Device 挂掉了,使得之前的理论无法解释实验。姑且吧责任归结于机台了。# V# Q4 ?0 K/ y
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问题搁置很久了,感谢marvel321 sir,这个差异应当是确切而且贴近题目的。
, ?! g" N- M% @, ?8 F' H8 F其它讨论也很有意义,但是还没有很明确证实对ESD 测试的影响$ {5 ^! A- C( Y1 G* P& r# e
悬赏结束,但是还希望大家能继续关注这个问题,把好思路Share出来~,完善这个问题点。 |
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