一些Layout的問題

小朱仔

1.在LAYOUT時..直接用Metal2跨越一顆MOS上的每一層..(包含Poly, diff)
: ?. E# [. d2 m   會有什麼影響??

* x! r: S" ~2 V, @! p在類比電路會產生雜散電容電阻不宜跨越,但在數位電路較不會影響

2.在畫GUARD RING時,有P跟N的畫法...
7 A% Q9 i, T- H) N9 L2 p% P) f   假設兩層都畫...那是否有誰在內圈誰在外圈的順序??
   或是順序都沒差??
9 d/ J; w( k! U/ h2 W/ K. s   另外就是..真的有必要化到兩層嗎??

2 ]3 q7 S. a* [- A+ |9 k+ y6 \個人常用做法是Nwell Ring再外當壕溝阻隔其他Noise以防干擾,並再GUARD RING下加入MOS電容效果更好

3.在畫並連的BJT時,很多嚴討會的講義都會教說..畫成九宮格..或是正方形畫法.
, G6 z% a/ J; d& b3 E# F* c   特別是在設計bandgap時,將BJT設計成8:1,layout時畫成九宮格..
   但是最近聽某個公司的主管說..這種話法並不是最好的..
8 Z3 u* Q! K0 I1 @+ B   那請問哪種畫法比較好??
0 U$ }3 g+ A4 Q5 f8 u' \" z
這個問題無法答覆因為目前個人也是畫九宮格對稱