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"N型的MOS如果 D、G端接在一起連接電路"
}/ }8 @6 b' y8 ~+ I9 |- z這種架構就類似於Diode-connected Transistor
4 G0 Z6 m( ]- i$ r% i, P二極體接法形式的電晶體
% u5 `' i4 p3 V2 d0 Q這樣子接~也是呈現負溫度TC的VGS值
3 }, u/ k, L2 Z. c3 ?+ r8 }但是操作在"次臨界區"或是"飽和區" T% t( ?2 m; _' u4 b
公式的表示方法也不一樣( x% ^) Q8 l; f, |+ h2 {. O3 ~
操作再次臨界區時,CMOS的特性跟DIODE是類似的% ]* ]$ A& t7 S3 M z
% |1 G3 R& w0 g e! }2 x* g6 T* v而一般bandgap 用的BJT,也是把B,C接在一起: r* K' P f! C1 i' U2 l
利用P-N junction的特性而已
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所以就特性來說~~用CMOS做成的P-N Junction
# i, L6 s$ G9 B5 V7 t, K應該也會跟BJT做出來的有類似的效果
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但是何者較穩定就不保證了
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因為就我之前的經驗~使用CMOS做出來的bandgap reference( I; J' V) Z8 m* w/ W# \" L8 k" n
它corner間的變化會很大,所以業界據說~還是偏愛使用BJT |
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